[实用新型]一种光刻机专用基片定位装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种光刻领域，尤其涉及一种光刻机专用基片定位装置。

背景技术

EXFO OmniCure S1000紫外点光固化系统对准系统，以其经济、高效的优点，在实验室中得到广泛应用。该系统为人工设置参数和放置基片，操作简便。但在紫外光刻或固化材料时，样品位置需相对精确摆放。由于视觉影响，手动放置样品时，需较长时间调节样品位置，且很难将样品放于光源正下方，从而导致加工失败。因此为保证光刻质量，需要一种操作简单的对准装置来实现基片位置的定位。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种光刻机专用基片定位装置，可以快速进行基片定位，使得基片位于光源正下方，有效减少基片的对准误差，缩短对准时间，提高光刻机的对准性能，提高光刻质量。

为实现上述目的，本实用新型提出如下技术方案：一种光刻机专用基片定位装置，包括光刻机以及安装在光刻机底座上的定位装置，其特征在于：所述定位装置包括基座，支撑杆，光源定位杆及基片定位杆，其中：

基座通过螺栓固定在底座上，而支撑杆固定在基座上表面，所述光源定位杆固定在支撑杆顶端，其自由端具有半圆环卡在光刻机的光源上，所述基片定位杆固定在基座侧面，其自由端具有基片定位环，且基片定位杆与光源定位杆平行，同时基片定位环圆心与半圆环圆心及光源中心在同一垂直线上。

作为优选，所述基片定位杆两端均具有外螺纹，且表面具有尺寸刻度，基片定位环螺纹固定在基片定位杆端部，且可根据基片尺寸大小进行基片定位环更换，同时基片定位杆螺纹固定在基座侧面，且根据基片定位环的尺寸结合尺寸刻度进行拧入尺寸调节，确保基片定位环圆心与半圆环圆心同一垂直线。

与现有技术相比，本实用新型揭示的一种光刻机专用基片定位装置，具有如下有益之处：

通过设置相互平行的光源定位杆及基片定位杆配合半圆环及基片定位环，实现上下圆心同一垂直线，确保基片可以快速定位到光源正下方，同时基片定位环可以根据基片尺寸进行快捷更换，为了确保更换基片定位环后圆心不变，基片定位杆采用深度可调形式，配合尺寸刻度可以精确调节深度，实现快速调节。

整个结构简单，有效减少基片的对准误差，缩短对准时间，提高光刻机的对准性能，提高光刻质量。

附图说明

图1是本实用新型使用情况图；

图2是本实用新型结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整的描述。

如图1~2所示，本实用新型揭示的一种光刻机专用基片定位装置，包括光刻机1以及安装在光刻机底座上的定位装置，所述光刻机具有底座2及光源3，所述定位装置包括基座4，支撑杆5，光源定位杆6及基片定位杆7。

具体说来，所述基座4通过螺栓固定在底座2上，而支撑杆5固定在基座4上表面，所述光源定位杆6一端固定在支撑杆顶端，另一端具有半圆环8卡在光刻机的光源3上，所述基片定位杆7固定在基座侧面，其自由端具有基片定位环9，且基片定位杆7与光源定位杆6平行，同时基片定位环9圆心与半圆环8圆心及光源3中心在同一垂直线上。

所述基片定位杆两端均具有外螺纹，且表面具有尺寸刻度（图未示），基片定位环9螺纹固定在基片定位杆7端部，且可根据基片10尺寸大小进行基片定位环更换，同时基片定位杆7螺纹固定在基座侧面，且根据基片定位环的尺寸结合尺寸刻度进行拧入尺寸调节，并通过锁紧螺栓11进行拧入位置锁紧固定，确保基片定位环圆心与半圆环圆心始终在同一垂直线。

定位装置安装在光刻机底座任意位置，只需确保半圆环卡住光源即可。

本实用新型所揭示的一种光刻机专用基片定位装置，其通过设置相互平行的光源定位杆及基片定位杆配合半圆环及基片定位环，实现上下圆形同一垂直线，确保基片可以快速定位到光源正下方，同时基片定位环可以根据基片尺寸进行快捷更换，为了确保更换基片定位环后圆心不变，基片定位杆采用深度可调形式，配合尺寸刻度可以精确调节深度，实现快速调节。

本实用新型的技术内容及技术特征已揭示如上，然而熟悉本领域的技术人员仍可能基于本实用新型的教示及揭示而作种种不背离本实用新型精神的替换及修饰，因此，本实用新型保护范围应不限于实施例所揭示的内容，而应包括各种不背离本实用新型的替换及修饰，并为本专利申请权利要求所涵盖。