[实用新型]一种光刻机专用基片定位装置有效
申请号: | 201720919522.0 | 申请日: | 2017-07-27 |
公开(公告)号: | CN207037328U | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 张华丽;陈科;冒卫星;黄明宇 | 申请(专利权)人: | 南通大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 | 代理人: | 顾森燕 |
地址: | 226000*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 专用 定位 装置 | ||
1.一种光刻机专用基片定位装置,包括光刻机以及安装在光刻机底座上的定位装置,其特征在于:所述定位装置包括基座,支撑杆,光源定位杆及基片定位杆,其中:
基座通过螺栓固定在底座上,而支撑杆固定在基座上表面,所述光源定位杆固定在支撑杆顶端,其自由端具有半圆环卡在光刻机的光源上,所述基片定位杆固定在基座侧面,其自由端具有基片定位环,且基片定位杆与光源定位杆平行,同时基片定位环圆心与半圆环圆心及光源中心在同一垂直线上。
2.根据权利要求1所述的光刻机专用基片定位装置,其特征在于:所述基片定位杆两端均具有外螺纹,且表面具有尺寸刻度,基片定位环螺纹固定在基片定位杆端部,且可根据基片尺寸大小进行基片定位环更换,同时基片定位杆螺纹固定在基座侧面,且根据基片定位环的尺寸结合尺寸刻度进行拧入尺寸调节,确保基片定位环圆心与半圆环圆心同一垂直线。
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