[实用新型]一种不积水的抛光头

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种化学机械抛光设备技术领域，更具体地，涉及一种不积水的抛光头。

背景技术

相关技术中的抛光设备的盖体与夹片组件外侧之间密封，盖体与基体之间具有间隙，抛光液会从盖体与基体之间的间隙进入抛光设备的内部，在抛光过程中，沉积在抛光设备内抛光液会向外溢出，进而影响抛光设备的基片的抛光效果。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种不积水的抛光头，所述抛光头可避免抛光液进入抛光头内部进而影响抛光效果。

根据本实用新型的不积水的抛光头包括：夹片组件；盖体，所述盖体可移动地安装在所述夹片组件上且与所述夹片组件之间限定出容纳腔；基体，所述基体可上下移动地安装在夹片组件上且位于所述容纳腔内，所述基体与所述盖体紧密相连；膜片，所述膜片分别与所述夹片组件和所述基体相连，且限定出密闭的腔室。

根据本实用新型的不积水的抛光头，通过将基体与盖体紧密接触，使得盖体与基体的顶部之间无间隙，防止抛光液进入抛光头内部，这样在夹片组件与基体的相对运动下不会由抛光头内部挤出抛光液，不会影响抛光工艺和抛光效果。

根据本实用新型的一个实施例，所述基体与所述盖体的内顶壁面配合连接。

可选地，所述基体包括：中轴部，所述轴孔沿上下方向贯通所述中轴部，所述盖体的中心设有通孔，所述中轴部的上端穿过所述通孔；外环部，所述外环部围绕所述中轴部设置，所述外环部与所述盖体通过螺栓相连。

根据本实用新型的一个可选的示例，所述夹片组件的上表面设有第二凹槽和部分位于所述盖体内的压盖，所述盖体在上下移动时与所述压盖至少有一部分相重合。

根据本实用新型进一步的示例，所述压盖与所述夹片组件之间设有第一密封圈。

可选地，所述外环部的上表面和所述盖体的内顶面中的一个上设有第二密封圈。

可选地，所述中轴部的外周面与所述通孔的内周壁紧密贴合。

可选地，所述盖体包括：顶盖，所述基体在所述膜片与所述顶盖紧密相连；围板，所述围板围绕所述顶盖设置且从所述顶盖的外周沿向下延伸。

根据本实用新型可选的示例，所述顶盖水平设置。

根据本实用新型可选的示例，所述顶盖与所述围板之间通过圆弧部相连。

根据本实用新型可选的示例，所述顶盖与所述围板之间通过倾斜部相连。

根据本实用新型可选的示例，所述顶盖沿从其中心处向所述围板处的方向逐渐向下倾斜地设置。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本实用新型实施例的抛光头的示意图；

图2是根据本实用新型实施例的抛光头的示意图；

图3是根据本实用新型另一个实施例的抛光头的示意图；

图4是根据本实用新型实施例的抛光头的示意图；

图5是根据本实用新型又一个实施例的抛光头的示意图；

图6是根据本实用新型实施例的抛光头的示意图。

附图标记：

100：抛光头；

10：夹片组件；11：中枢轴；12：第二凹槽；13：第三凹槽；14：保持环；

20：盖体；20a：容纳腔；21：顶盖；22：围板；23：圆弧部；24：倾斜部；

30：基体；30a：轴孔；31：中轴部；32：外环部；321：第一凹槽；322：压环；

40：膜片；

50：压盖；

60：第一密封圈；

70：第二密封圈。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。