[实用新型]一种硅片制绒清洗机用连体槽有效
| 申请号: | 201720861976.7 | 申请日: | 2017-07-17 |
| 公开(公告)号: | CN206976296U | 公开(公告)日: | 2018-02-06 |
| 发明(设计)人: | 邵玉林 | 申请(专利权)人: | 无锡琨圣科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18;B01F7/18;B01F15/00 |
| 代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
| 地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 硅片 清洗 连体 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种连体槽,特别是涉及一种硅片制绒清洗机用连体槽。
背景技术
太阳能制绒清洗机的主要功能是对太阳能电池硅片进行扩散前的清洗处理,是一个集制绒、清洗处理为一体的全自动设备。兼容单多晶硅电池片绒面制备,通过实验、生产考验,改进后的多晶制绒控温方式,可获得合格的多晶绒面。该设备主要由主体、连体槽、移载机械手、管道系统、电气控制系统等部分组成,连体槽在使用过程中常需进行液体的循环,现有技术中传统的设备,循环流进连体槽内的液体至从连体槽上端一个方向流进,但是一般经循环的液体需进行升温或者其他操作,此时单方向流进的液体在连体槽内混合不均匀,严重影响产品的加工质量,因此本实用新型研制一种硅片制绒清洗机用连体槽,以解决现有技术中存在的问题,经检索,未发现与本实用新型相同或相似的技术方案。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的不足,本实用新型提供了一种硅片制绒清洗机用连体槽,以解决现有技术中液体混合不均匀的问题。
为达到上述目的,本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种硅片制绒清洗机用连体槽,包括槽体、嵌套设置在槽体内的盛料装置及液体搅拌装置;所述槽体两侧内壁均具有一嵌槽;所述盛料装置包括可嵌套设置在槽体内的箱体及由箱体上端两侧向外延伸的支撑板,所述支撑板下端具有一磁铁A;所述液体搅拌装置包括支撑架及固定在支撑架上的若干搅拌叶;所述支撑架包括嵌套设置在嵌槽内的若干拉杆、固定在对称设置的拉杆下端的若干连接杆A及垂直于连接杆A设置的若干连接杆B;所述拉杆上端具有一与磁铁A相吸的磁铁B,所述磁铁B嵌套设置在磁铁A内部;相邻所述连接杆A和连接杆B之间形成一空腔,所述空腔内设置有呈X型的加强板;所述搅拌叶设置在加强板中部下端,内部呈中空状。
进一步的,所述连接杆A和连接杆B上端均布设置有若干呈中空状的浮筒。
进一步的,所述拉杆的高度与槽体的高度相同。
进一步的,所述支撑架下端面与箱体下端面之间的距离为10~25cm。
由于上述技术方案的运用,本实用新型与现有技术相比具有下列有益效果:
(1)本实用新型在传统结构中增设了液体搅拌装置,同时不需要电力驱动,直接通过箱体向下运动,带动液体搅拌装置下行,并实现搅拌叶的转动,结构设计合理简单,投入成本低;
(2)搅拌叶呈中空状,同时连接杆A和连接杆B上端均布设置有若干呈中空状的浮筒,能够实现液体搅拌装置自动上浮的操作,无需其他外部驱动力;
(3)拉杆的高度与槽体的高度相同,保证结构工作的高效性;同时支撑架下端面与箱体下端面之间的距离为10~25cm,设置的合理距离实现搅拌叶对液体的高效搅拌,进一步保证结构设计的合理性。
附图说明
图1是本实用新型所述结构的示意图。
图2是本实用新型所述液体搅拌装置的俯视图。
图中1、槽体,2、嵌槽,3、箱体,4、支撑板,5、磁铁A,6、拉杆,7、磁铁B,8、连接杆A,9、连接杆B,10、加强板,11、空腔,12、搅拌叶,13、浮筒。
具体实施方式
下面结合具体实施例,对本实用新型的内容做进一步的详细说明:
如图1-2所示,一种硅片制绒清洗机用连体槽,包括槽体1、嵌套设置在槽体1内的盛料装置及液体搅拌装置;其中槽体1两侧内壁均具有一嵌槽2;盛料装置包括可嵌套设置在槽体1内的箱体3及由箱体3上端两侧向外延伸的支撑板4,支撑板4下端具有一磁铁A5;液体搅拌装置包括支撑架及固定在支撑架上的若干搅拌叶12;支撑架下端面与箱体3下端面之间的距离为10~25cm,主要包括嵌套设置在嵌槽2内的若干拉杆6、固定在对称设置的拉杆6下端的若干连接杆A8及垂直于连接杆A8设置的若干连接杆B9;拉杆6的高度与槽体1的高度相同,上端具有一与磁铁A5相吸的磁铁B7,磁铁B7嵌套设置在磁铁A5内部;连接杆A8和连接杆B9上端均布设置有若干呈中空状的浮筒13,相邻连接杆A8和连接杆B9之间形成一空腔11,空腔11内设置有呈X型的加强板10;搅拌叶12设置在加强板10中部下端,内部呈中空状。
工作时,箱体3向下运动并带动液体搅拌装置向下运动,在水流的作用下会使搅拌叶12开始转动,实现装置内液体的搅拌;浸泡一段时间后,箱体3向上运动,不仅可以通过磁铁A5和磁铁B7的吸力带动液体搅拌装置上行,还能通过液体搅拌装置自身浮力实现其上行,达到上端时,磁铁A5与磁铁B7脱离即可实现箱体向其他位置的移动,整体结构设计合理,工作简单,不需过多驱动力,投入成本低。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围,凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡琨圣科技有限公司,未经无锡琨圣科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720861976.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种应用于贴片二极管框架的过炉焊接治具
- 下一篇:一种单边循环碱洗槽
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





