[实用新型]一种保护罩结构有效

申请号：	201720813790.4	申请日：	2017-07-06
公开（公告）号：	CN207781542U	公开（公告）日：	2018-08-28
发明（设计）人：	阚杰;陈诚;刘东升;吕煜坤;朱骏;张旭升	申请（专利权）人：	上海华力微电子有限公司
主分类号：	H01L21/67	分类号：	H01L21/67
代理公司：	上海申新律师事务所 31272	代理人：	俞涤炯
地址：	201203 上海市浦***	国省代码：	上海;31
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摘要：
搜索关键词：	升降结构波纹管保护罩腔体承托部件干法刻蚀设备连接部件升降装置本实用新型波纹管套刻蚀工艺连接腔体向下延伸有效隔离预定距离最小行程掉落晶圆伸入托举遮蔽密封损伤体内应用
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【权利要求书】：

1.一种保护罩结构，应用于干法刻蚀设备中，所述干法刻蚀设备包括一腔体，以及设置于所述腔体外的一升降装置，所述升降装置包括一升降结构，所述升降结构由所述腔体底部伸入所述腔体内，所述升降结构顶部连接一承托部件，用以托举晶圆，还包括一波纹管，所述波纹管套设于所述升降结构伸入所述腔体内的区段上，并连接所述承托部件及所述腔体底部，以于所述腔体与升降结构之间形成密封，其特征在于，还包括：

连接部件，设置于所述波纹管及所述腔体底部之间，并套设在所述升降结构外，用以连接所述波纹管及所述腔体底部；

保护罩，罩于所述承托部件上，并向下延伸以遮蔽所述波纹管；

当所述升降结构向下活动至最小行程时，所述保护罩的底部与所述连接部件连接所述腔体底部的结构之间具有一预定距离。

2.根据权利要求1所述的保护罩结构，其特征在于，所述保护罩呈圆筒形。

3.根据权利要求2所述的保护罩结构，其特征在于，所述保护罩的内径大于所述波纹管的外径。

4.根据权利要求3所述的保护罩结构，其特征在于，所述保护罩的内径与所述波纹管的外径差值为3MM。

5.根据权利要求1所述的保护罩结构，其特征在于，所述保护罩与所述波纹管由相同的材质制成。

6.根据权利要求1所述的保护罩结构，其特征在于，所述波纹管由耐高温的不锈钢材质制成。

7.根据权利要求1所述的保护罩结构，其特征在于，所述保护罩的顶部设置有多个沉孔，所述保护罩通过沉头螺丝连接所述承托部件。

8.根据权利要求1所述的保护罩结构，其特征在于，所述升降装置为气缸。

9.根据权利要求8所述的保护罩结构，其特征在于，所述升降结构为活塞杆。

10.根据权利要求1所述的保护罩结构，其特征在于，所述连接部件为法兰环。