[实用新型]类金刚石薄膜的沉积设备

权利要求书

1.一种类金刚石薄膜的沉积设备，其包括脉冲直流偏压电源系统和具有真空腔体的沉积壳体，所述沉积壳体接地且所述沉积壳体上设置有抽真空口和进出货炉门，其特征在于，所述类金刚石薄膜的沉积设备还包括恒流离化装置，所述恒流离化装置包括设置于所述沉积壳体外的离化电源和设置于所述真空腔体内的两个离化电极，两个所述离化电极分别与所述离化电源电连接，所述沉积壳体上设置有用于放置离子源的第一凸腔，所述真空腔体内设置有加热管组、气管组、靶材组和用于放置工件的环形的工件转架，所述脉冲直流偏压电源系统的电源正极接地，所述脉冲直流偏压电源系统的电源负极与所述工件转架连接。

2.如权利要求1所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，所述靶材组分为两组靶材，两组所述靶材和所述离化电极均位于所述工件转架的内侧，且两组所述靶材对称布置在所述离化电极的两侧，所述靶材为具有靶罩的圆柱靶材。

3.如权利要求1所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，所述加热管组分为两组加热管，一组所述加热管位于所述工件转架的内侧且另一组所述加热管位于所述工件转架的外侧；所述气管组分为两组气管，一组所述气管位于所述工件转架的内侧且另一组所述气管位于所述工件转架的外侧。

4.如权利要求3所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，位于所述工件转架的外侧的一组所述加热管包括若干个第一加热管，若干个所述第一加热管围绕所述真空腔体中心的周向间隔布置；位于所述工件转架的外侧的一组所述气管包括若干个第一气管，若干个所述第一气管围绕所述真空腔体中心的周向间隔布置；所述第一气管和所述第一加热管到所述真空腔体中心的距离一致。

5.如权利要求3所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，位于所述工件转架的内侧的一组所述加热管包括若干个第二加热管，若干个所述第二加热管围绕所述真空腔体中心的周向间隔布置；位于所述工件转架的内侧的一组所述气管包括若干个第二气管，若干个所述第二气管围绕所述真空腔体中心的周向间隔布置；所述第二气管和所述第二加热管到所述真空腔体中心的距离一致。

6.如权利要求1所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，所述气管组所包括的气管穿过所述沉积壳体的底壁后伸入所述真空腔体内，所述气管伸入所述真空腔体内的部分为内管，所述内管的朝向所述工件转架的管壁开有若干通孔，若干所述通孔的孔径沿所述气管高度方向从下到上依次增加。

7.如权利要求6所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，所述工件转架上安装有多个用于悬挂工件的圆形的挂架，多个所述挂架等距设置，所述内管的高度大于所述挂架的高度。

8.如权利要求1-7中任一项所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，所述沉积壳体上设置有用于放置弧靶的第二凸腔。

9.如权利要求8所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，所述沉积壳体为轴对称的结构，所述第一凸腔和第二凸腔对称设置，所述抽真空口和所述进出货炉门相对设置。

10.如权利要求1-7中任一项所述的类金刚石薄膜的沉积设备，其特征在于，所述类金刚石薄膜的沉积设备还包括抽真空系统，所述抽真空系统通过所述抽真空口与所述真空腔体连通；所述进出货炉门上设置有观察窗。