[实用新型]一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及陶瓷加工领域，具体而言，涉及一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备。

背景技术

陶瓷抛光工艺是陶瓷制作工艺中的研磨工序，研磨的目的是为了获得平整光滑的磨面，研磨分为粗磨和精磨两种。粗磨是将粗糙的表面和不规则外形修正成形；精磨是经过粗磨后陶瓷表面尚有很深的磨痕，需要在细磨中消除。

在现有技术中，通用的陶瓷抛光方法有化学式抛光法和物理式抛光法。化学式抛光法是采用化学液进行的抛光方法，一般来说需要经过多重浸泡和清洗，直至最后烘干。但是化学但是液通常对人体的伤害都是极大的，如果用化学液抛光的话，即便是怎么清洗，始终还是会有残留的。

物理式抛光方法抛光就是将陶瓷表面的粗糙面磨掉，根据陶瓷工件的表面光滑高要求，更换不同硬度的抛光轮，进行粗磨、中磨、精磨，所达到最终的想要的目的。虽然相对化学液抛光方法安全，但是传统的抛光机一般都需要单独腾出一间抛光车间来进行抛光，要想达到产业流水线作业，抛光占用的空间太大，并且在抛光过程中由于机械臂进行抛光时，机械臂之间容易因为空间原因使抛光作业收到妨碍。

并且传统的抛光会造成车间的粉尘飞散，一个粉尘堆积的状态，会对环境造成很大的污染，同时也会对抛光的操作人员的身体造成极大的危害，产生尘肺病等职业病。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备，其能够解决现有技术中多个抛光臂导致的占用空间大，抛光臂工作时相互之间存在干扰的问题，并且该抛光装置能够实现全方位旋转，适用于异形陶瓷的抛光工作。

本实用新型的实施例是这样实现的：

一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备包括抛光组件，抛光组件旋转部和抛光部，抛光部设置在旋转部内；抛光部包括抛光磨砂头和第一抛光外壳，抛光磨砂头设置在第一抛光外壳内；旋转部包括第二驱动电机、第二抛光外壳和抛光支撑架，第二驱动电机设置在第二抛光外壳内，第二抛光外壳设置在第一抛光外壳外，抛光支撑架设置在第二抛光外壳外。

在本实用新型较佳的实施例中，上述用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备还包括抛光装置和吸尘装置，抛光装置设置在吸尘装置内。

在本实用新型较佳的实施例中，上述抛光装置包括电机组件、固定组件、支撑组件和抛光组件，电机组件设置在固定组件和抛光组件内，固定组件与流水线平台连接，支撑组件设置在固定组件一侧并与固定组件连接，抛光组件与支撑组件配合连接。

在本实用新型较佳的实施例中，上述电机组件第一驱动电机和第二驱动电机，其中第一驱动电机设置在固定基座平台一侧，第二驱动电机设置在抛光部内。

在本实用新型较佳的实施例中，上述固定组件固定基座和液压卡组，其中固定基座水平固定流水平台上，固定基座平台表面还设置有液压卡组，液压卡组相向设置。

在本实用新型较佳的实施例中，上述支撑组件第一支撑架、第二支撑架、第一关节转轴、第二关节转轴、抛光摇臂，第一支撑架竖直设置在固定基座一侧；第二支撑架与固定基座水平设置，并且第二支撑架与第一支撑架连接；第一关节转轴与第二支撑架配合，并且第一关节转轴和抛光摇臂相配合；抛光摇臂的一端与第一关节转轴配合，抛光摇臂的另一端与第二关节转轴配合。

在本实用新型较佳的实施例中，上述一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备，旋转部中的第二抛光外壳设置成桶状，第二抛光外壳和第一抛光外壳之间存在空隙，第一抛光外壳和第二抛光外壳底部形成空腔，第二驱动电机设置在桶状第二抛光外壳内的空腔中；抛光支撑架为U型的不锈钢支撑架，抛光支撑架通过两个紧固件与第二抛光外壳连接，抛光支撑架还与第二关节转轴配合。

在本实用新型较佳的实施例中，上述吸尘装置还包括防护组件和吸尘组件，吸尘组件设置在吸尘组件内。

在本实用新型较佳的实施例中，上述防护组件包括第一防护壳体和第二防护壳体，第一防护壳体为两端有开口的长方体结构外壳，第一防护壳体的外壳上设置有多个小孔；第二防护壳体与第一防护壳体的形状匹配，第二防护壳体设置在第一防护壳体外，第一防护壳体与第二防护壳体之间形成了防护空腔。

在本实用新型较佳的实施例中，上述吸尘组件包括吸尘抽风机、吸尘喷雾机和吸尘水槽，吸尘抽风机、吸尘喷雾机和吸尘水槽都设置在防护空腔中，吸尘抽风机设置于防护空腔中的两侧，吸尘抽风机设置于相对流水线平行的两侧；吸尘喷雾机设置在防护空腔的顶部；吸尘水槽设置在防护空腔的底部。