[实用新型]一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备有效

专利信息
申请号: 201720717257.8 申请日: 2017-06-20
公开(公告)号: CN206795537U 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 李丰 申请(专利权)人: 成都久久陶瓷有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B41/04;B24B41/06;B24B55/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000 四川省成都*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 陶瓷 加工 封闭式 抛光 设备
【权利要求书】:

1.一种用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,其包括抛光组件,所述抛光组件包括旋转部和抛光部,所述抛光部设置在所述旋转部内;所述抛光部包括抛光磨砂头和第一抛光外壳,所述抛光磨砂头设置在所述第一抛光外壳内;所述旋转部包括第二驱动电机、第二抛光外壳和抛光支撑架,所述第二驱动电机设置在第二抛光外壳内,所述第二抛光外壳设置在所述第一抛光外壳外,所述抛光支撑架设置在第二抛光外壳外。

2.根据权利要求1所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述半封闭式抛光设备还包括抛光装置和吸尘装置,所述抛光装置设置在吸尘装置内。

3.根据权利要求2所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述抛光装置包括电机组件、固定组件、支撑组件和抛光组件,所述电机组件设置在所述固定组件和所述抛光组件内,所述固定组件与流水线平台连接,所述支撑组件设置在所述固定组件一侧并与所述固定组件连接,所述抛光组件与所述支撑组件配合连接。

4.根据权利要求3所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述固定组件包括固定基座和液压卡组,所述固定基座水平固定在流水平台上,所述固定基座平台表面还设置有液压卡组,所述液压卡组相向设置。

5.根据权利要求3所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述电机组件包括第一驱动电机和第二驱动电机,所述第一驱动电机设置在所述固定基座平台一侧,所述第二驱动电机设置在所述抛光部内。

6.根据权利要求3所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述支撑组件包括第一支撑架、第二支撑架、第一关节转轴、第二关节转轴和抛光摇臂,所述第一支撑架竖直设置在所述固定基座一侧;所述第二支撑架与所述固定基座水平设置,并且所述第二支撑架与所述第一支撑架连接;所述第一关节转轴与所述第二支撑架配合,并且所述第一关节转轴和所述抛光摇臂相配合;所述抛光摇臂的一端与所述第一关节转轴配合,所述抛光摇臂的另一端与所述第二关节转轴配合。

7.根据权利要求1所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述旋转部中的第二抛光外壳设置成桶状,所述第二抛光外壳和所述第一抛光外壳之间存在空隙,所述第一抛光外壳和所述第二抛光外壳底部形成空腔,所述第二驱动电机设置在桶状第二抛光外壳内的空腔中;所述抛光支撑架为U型的不锈钢支撑架,所述抛光支撑架通过两个紧固件与所述第二抛光外壳连接,所述抛光支撑架还与第二关节转轴配合。

8.根据权利要求2所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述吸尘装置还包括防护组件和吸尘组件,所述吸尘组件设置在所述吸尘组件内。

9.根据权利要求8所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述防护组件包括第一防护壳体和第二防护壳体,所述第一防护壳体为两端有开口的长方体外壳,所述第一防护壳体的外壳上设置有多个小孔;所述第二防护壳体与所述第一防护壳体的形状匹配,所述第二防护壳体设置在所述第一防护壳体外,所述第一防护壳体与第二防护壳体之间形成防护空腔。

10.根据权利要求9所述的用于陶瓷加工的半封闭式抛光设备,其特征在于,所述吸尘组件包括吸尘抽风机、吸尘喷雾机和吸尘水槽,所述吸尘抽风机、所述吸尘喷雾机和所述吸尘水槽分别设置在所述防护空腔中,所述吸尘抽风机设置于所述防护空腔中的两侧,所述吸尘抽风机设置于相对流水线平行的两侧;所述吸尘喷雾机设置在所述防护空腔的顶部;所述吸尘水槽设置在所述防护空腔的底部。

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