[实用新型]一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置有效
申请号: | 201720671498.3 | 申请日: | 2017-06-09 |
公开(公告)号: | CN206796141U | 公开(公告)日: | 2017-12-26 |
发明(设计)人: | 李丰 | 申请(专利权)人: | 成都久久陶瓷有限公司 |
主分类号: | B28B11/04 | 分类号: | B28B11/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610000 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 陶瓷 加工 全方位 装置 | ||
1.一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,它包括传动装置和施釉装置,所述的传动装置设置在流水线平台上,所述的施釉装置设置在流水线顶蓬和流水线平台上,所述的传动装置包括第一传动组件和第二传动组件,且所述第一传动组件和所述第二传动组件平行设置;所述的施釉装置包括第一施釉组件、第二施釉组件和吸附组件,所述第一施釉组件设置在所述流水线顶蓬上,所述第二施釉组件固定设置在所述流水线平台上,所述吸附组件设置在所述流水线顶蓬上。
2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,所述第一传动组件包括第一输送带、第一传送滚轴、第二传送滚轴和传动电机,所述第二传动组件包括第二输送带、第三传送滚轴、第四传送滚轴和传动电机,所述第一输送带和所述第二输送带平行设置,且中间留有间隙,所述第一传送滚轴和所述第二传送滚轴设置在所述第一输送带内,所述第三传送滚轴和所述第四传送滚轴设置在所述第二输送带内,所述传送电机与所有传送滚轴连接。
3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,所述第一施釉组件包括釉液桶、第一釉液管道、釉液雾化器和釉液喷头,所述釉液桶固定设置在流水线顶蓬上,所述釉液桶设置有第一开口和第二开口,所述第一开口上设置有螺纹突起,所述第二开口设置在所述第一开口相对一侧,所述第一釉液管道与所述第二开口连接,所述釉液雾化器与所述第一釉液管道连接,所述釉液喷头设置在所述釉液管道的尾端。
4.根据权利要求3所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,所述釉液桶中还设置有搅拌组件,所述搅拌组件包括搅拌电机、搅拌轴承和搅拌叶片,所述搅拌电机悬垂固定设置在所述釉液桶顶端,所述搅拌轴承与所述搅拌电机固定设置在一起,所述搅拌叶片与所述搅拌轴承相连接。
5.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,所述第二施釉组件包括增压泵,所述增压泵设置在釉液雾化器与釉液喷头之间,并且所述增压泵与第一釉液管道连接。
6.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,所述吸附组件包括微型真空泵、吸附吸盘、横向滑轨、纵向滑轨以及连接杆,所述微型真空泵固定设置在流水线顶蓬上,所述横向滑轨固定设置在流水线顶蓬上,并与第一传送带垂直设置,所述纵向滑轨与横向滑轨连接,悬垂设置在横向滑轨上,所述连接杆与纵向滑轨连接设置,所述吸附吸盘设置在连接杆上。
7.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,所述全方位施釉装置还包括釉液回收装置,所述釉液回收装置设置在流水线平台下。
8.根据权利要求7所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,所述釉液回收装置包括釉液过滤组件和釉液再利用组件,釉液过滤装置设置在流水线平台下,釉液再利用组件与釉液过滤装置和釉液桶连接。
9.根据权利要求8所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,釉液过滤组件包括釉液回收罩、釉液过滤槽、第二釉液管道和过滤滤网,所述釉液回收罩设置在整个施釉装置外围,所述釉液过滤槽固定设置在流水线平台下方,并在过滤槽中间位置设置有第三开口,所述过滤滤网设置在釉液过滤槽底部,所述第二釉液管道与第三开口连接设置。
10.根据权利要求8所述的一种用于陶瓷加工的全方位施釉装置,其特征在于,所述釉液再利用组件包括釉液回收槽、第三釉液管道和回收搅拌器,所述釉液回收槽为桶状封闭装置,并设置有第四开口和第五开口,第二釉液管道与第四开口相连,第五开口与所述第三釉液管道相连,所述回收搅拌器设置在釉液回收槽内。
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