[实用新型]一种河道的面截污系统有效
申请号: | 201720647964.4 | 申请日: | 2017-06-06 |
公开(公告)号: | CN207073107U | 公开(公告)日: | 2018-03-06 |
发明(设计)人: | 陈健;徐韬 | 申请(专利权)人: | 新大陆科技集团有限公司 |
主分类号: | E02B3/02 | 分类号: | E02B3/02;E02B5/08;E02B3/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 350015 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 河道 面截污 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及河道净化技术领域,具体涉及一种河道的面截污系统。
背景技术
由于城市的发展,居民生活污水和工业废水直排河中,已严重超出了河道的自净能力,造成河道严重污染,使河道变窄变浅,部分河道水体黑臭,黑臭水体成为目前环境保护的突出问题之一。为此,全国各级政府加大了黑臭水体整治力度,通过实施截污纳管、建造地下污水管网、污水处理厂,将河道沿岸的污水进行汇集和净化处理,使水环境明显改善。
但实际治理过程中,由于河道沿岸截污不彻底或新出现的污水渗漏点,常常发现净化后的河流再次被污染,影响治理效果。同时污水截污纳管的污水汇集方式也存在以下技术问题:
1 河道沿岸的排污口需逐个排查,工作量大,所有的排污口需要开挖、埋管,接入总管,再由总管输往污水厂,工程量大,投资高;影响面大,时间长,耗资巨大、施工风险很大,对群众生活造成不便;
2 有的排水口隐秘不易发现,导致纳管不完全、截污不彻底;
3 通常情况下,纳污水管流量并不均衡,造成污泥堆积,长时间后必然造成管路淤积,堵塞,清除困难;
4 纳污水管埋在地下,易受地势沉降、震动等其他影响,导致破裂、渗水等,再次使污水流出,这样的故障更难以排查;
5 排污口的高低不同,导致纳污管的高度难以统一,给施工造成难度,不适应复杂地形的情况。
6 上述原因造成截污纳管不稳定、不可靠,净化后的河水易被再次污染。
此外,在治理河道过程中,经常发现有的河道被部分覆盖形成局部暗河,或因天然地理条件形成暗河,而暗河部分又无法采用传统的处理手段进行净化,使河道不能整体净化;或者河道中部分河段被严重污染,不适宜作为净水河道,此时,即使构筑截污墙体也无法将严重污染的河段作为净水河道。
因此,急需一种能够实现暗河和部分严重污染河段的截污、能够防止净化后的河水被再次污染、工程量小,投资合理;影响面小,时间短,施工风险小,稳定可靠的河道截污系统来满足实际需要。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种河道的面截污系统,能够实现暗河和部分严重污染河段的截污、防止净化后的河水被再次污染,截污效果稳定可靠,且工程量小,投资合理,施工影响面小,时间短,施工风险小。
本实用新型的一种河道的面截污系统是这样实现的:一种河道的面截污系统,其特征在于:所述河道包含若干个第一河段和若干个第二河段,所述第一河段为顶部被覆盖的河道、暗河或河道中污染严重的河段,第二河段的顶部敞开,所述第二河段位于第一河段的一侧或两侧;所述面截污系统包括第二河段的两侧河岸、沿第二河段的两岸构筑的第一截污墙体、第二截污墙体、第一截污墙体与第二截污墙体上靠近第一河段的端部位置之间的连接墙体;所述第一截污墙体、第二截污墙体和连接墙体自河道底部向上延伸且高于所在河段的正常水位;所述第一截污墙体、第二截污墙体分别和与其对应的河岸之间形成集污沟道,所述集污沟道与第一河段连通;所述第二河段上由第一截污墙体、第二截污墙体和连接墙体围成的部分河道形成净水河道。
为了更好的技术效果,本实用新型技术方案的技术特点还可以具体为以下技术特征:
1.所述第一截污墙体、第二截污墙体端部之间的连接墙体上设有闸门。
2.所述第一截污墙体、第二截污墙体和连接墙体的高度不高于其对应的河岸。
3.所述河道包含一个第一河段和一个第二河段,第二河段位于第一河段的一侧。
4.所述河道包含一个第一河段和两个第二河段,两个第二河段分别位于第一河段的两侧。
5.第一河段的顶部被覆盖物覆盖。
6.所述第一截污墙体和第二截污墙体采用模块化的预制体构筑,第一截污墙体和第二截污墙体分别由若干个预制体模块沿河岸方向顺序连接构成,相邻的预制体模块接缝处密封。
7.进一步地,所述预制体模块为两边带有互锁结构的钢板桩模块,相邻的两个钢板桩模块通过互锁结构连接并形成水密封。
8.所述第一河段的顶部或河道的附近设置小型的污水处理站,第一河段和/或集污沟道通过水泵连接至所述污水处理站。
9.所述集污沟道和/或第一河段与市政污水管连接。
10. 所述集污沟道和/或第一河段通过排污泵站与市政污水管连接。
应用本实用新型的河道的面截污系统的河道具有如下优点:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于新大陆科技集团有限公司,未经新大陆科技集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720647964.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。