[实用新型]一种生产电容式触摸屏用镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种生产电容式触摸屏用镀膜装置。

背景技术

在生产电容式触摸屏的过程中需要在玻璃基板上镀上一层透明的特殊导电膜，但在对玻璃基板进行镀膜前都需先对其进行预加热处理，因此，现有技术中，真空镀膜箱体内都设有预加热装置；但是现有的预加热装置往往是固定不可调节的，不能根据需要调整位置和角度，使得基板受热不均匀，影响后续镀膜效果；而且镀膜过程中产生的大量的粉尘，这些粉尘落到基板上容易出现镀膜不均匀现象，影响镀膜的质量，为了避免这种现象，需要整体停机清理粉尘，影响镀膜效率。

发明内容

本实用新型正是针对以上技术问题，提供一种生产电容式触摸屏用镀膜装置。

本实用新型为实现上述目的，采用以下技术方案：一种生产电容式触摸屏用镀膜装置，包括预处理室和镀膜室，预处理室内部下方设有传送基板的传送带，预处理室的两侧对应传送带处设有进料口和出料口，预处理室的内顶部设有可移动的预加热装置，镀膜室设置在预处理室出料口的一侧，并通过出料口与预处理室相连通，镀膜室的一侧连通有气源装置和真空泵，镀膜室的底部中央通过支架设有工作台，位于出料口处传送带的一端伸入镀膜室内与工作台相接，工作台的上表面设有真空吸附面，工作台的底面设有超声波振荡器，镀膜室内工作台的上方设有弧源，弧源包括阴极和阳极，阴极上设有朝基板溅射金属等离子体的靶材，弧源上连有控制弧源电流的控制箱，镀膜室内工作台的右侧设有除尘装置，除尘装置包括吸盘、除尘磨头和集尘装置，除尘磨头安装在吸盘内，且其顶端高于吸盘的顶端，集尘装置设置在吸盘的下方，集尘装置内设有与吸盘连通的吸尘泵。

所述预加热装置包括通过气缸控制的活塞杆，气缸设置在预处理室的外壁上，活塞杆的另一端连有金属挠性软管，金属挠性软管的下端设有向下开口的半圆形的反射罩，反射罩的内部设有加热器，加热器朝向传送带上的基板。

所述反射罩的开口端可拆卸的固定有封口板。

所述除尘装置还包括弹性限位件，弹性限位件的一端与吸盘固定，另一端与除尘磨头的下表面固定。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型可根据所需对预加热装置进行调节，确保基板均匀的受热，提高后续镀膜效果；而且镀膜过程中产生的粉尘可以通过吸尘泵从吸盘吸入到集尘装置中，避免了整体停机清理粉尘的步骤，提高了镀膜的效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图中：1、预处理室；2、镀膜室；3、传送带；4、进料口；5、出料口；6、气源装置；7、真空泵；8、支架；9、工作台；10、超声波振荡器；11、弧源；12、靶材；13、控制箱；14、吸盘；15、除尘磨头；16、集尘装置；17、气缸；18、活塞杆；19、金属挠性软管；20、反射罩；21、加热器；22、封口板；23、弹性限位件。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

如图1所示，一种生产电容式触摸屏用镀膜装置，包括预处理室1和镀膜室2，预处理室1内部下方设有传送基板的传送带3，预处理室1的两侧对应传送带3处设有进料口4和出料口5，预处理室1的内顶部设有可移动的预加热装置，镀膜室2设置在预处理室1出料口5的一侧，并通过出料口5与预处理室1相连通，镀膜室2的一侧连通有气源装置6和真空泵7，镀膜室2的底部中央通过支架8设有工作台9，位于出料口5处传送带3的一端伸入镀膜室2内与工作台9相接，工作台9的上表面设有真空吸附面，工作台9的底面设有超声波振荡器10，镀膜室2内工作台9的上方设有弧源11，弧源11包括阴极和阳极，阴极上设有朝基板溅射金属等离子体的靶材12，弧源11上连有控制弧源11电流的控制箱13，镀膜室2内工作台9的右侧设有除尘装置，除尘装置包括吸盘14、除尘磨头15和集尘装置16，除尘磨头15安装在吸盘14内，且其顶端高于吸盘14的顶端，集尘装置16设置在吸盘14的下方，集尘装置16内设有与吸盘14连通的吸尘泵。

所述预加热装置包括通过气缸17控制的活塞杆18，气缸17设置在预处理室1的外壁上，活塞杆18的另一端连有金属挠性软管19，金属挠性软管19的下端设有向下开口的半圆形的反射罩20，反射罩20的内部设有加热器21，加热器21朝向传送带3上的基板。

所述反射罩20的开口端可拆卸的固定有封口板22。

所述除尘装置还包括弹性限位件23，弹性限位件23的一端与吸盘14固定，另一端与除尘磨头15的下表面固定。