[实用新型]一种嵌套式磁控溅射镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及镀膜装置领域，尤其涉及一种嵌套式磁控溅射镀膜装置。

背景技术

电容式触摸屏是在玻璃基板表面镀上一层透明的导电物质，当手指触摸在玻璃上，触点的电容就会发生变化，使得与之相连的振荡器频率发生变化，通过测量频率变化可以获得确定的触摸位置信息。磁控溅射技术自问世后就获得了迅速的发展和广泛的应用，以它沉积速度快、应用范围广、工艺重复性好的优点使其有力地冲击了其它镀膜方法的地位，溅射是指具有一定能量的粒子轰击固体表面，使得固体分子或原子离开固体，从表面射出的现象，溅射镀膜是指利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。现有的溅射镀膜装置均设有一个密闭的真空腔，在对柔性基材镀膜时一般采用卷绕输送的方式，但是对于体积较大的硬质基片，将其放入真空腔或从真空腔取出时十分不便，还容易使基片受到损坏。

实用新型内容

本实用新型旨在解决现有技术的不足，而提供一种嵌套式磁控溅射镀膜装置。

本实用新型为实现上述目的，采用以下技术方案：一种嵌套式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，包括腔体、活动密封门、靶体和支架，所述腔体为横置的且一侧底部缺失圆柱形腔体，所述靶体为柱体，所述靶体横置于所述腔体的内部中心，且所述靶体的一端设有靶头，所述靶头上伸出有转轴，所述转轴穿出所述腔体的底部之外与外接电机相连接，且所述转轴与所述腔体的底部之间安装有轴承一，

所述活动密封门安装于所述腔体的底部缺失的一侧，所述活动密封门的内侧表面沿圆周均布有多个基片安装插孔，每个所述基片安装插孔的长度方向与其所在的圆周的切线方向一致，所述基片安装插孔的外围沿圆周均布有多个遮蔽罩插孔，每个所述遮蔽罩插孔的长度方向与其所在的圆周的切线方向一致，且每个所述遮蔽罩插孔与两个相邻的所述基片安装插孔之间的空隙相对应，所述基片安装插孔中可拆卸地装有基片安装板，所述基片安装板上装有基片，所述遮蔽罩插孔中可拆卸地装有遮蔽板，

所述活动密封门的外侧表面中心安装有支撑杆，所述支撑杆与所述活动密封门之间安装有轴承二，

所述支架位于所述腔体下方，所述支架上设有轨道，所述支撑杆的底部安装于所述轨道上，所述支撑杆能够在所述轨道上滑动，

所述腔体上设有进气口和抽真空口。

特别的，所述腔体与所述支架之间设有托架。

特别的，所述活动密封门与所述腔体之间设有密封锁。

本实用新型的有益效果是：本实用新型为嵌套式的磁控溅射装置，设有与活动密封门连接的支撑杆和匹配的轨道，通过拉动活动密封门将基片带进和带出真空腔，并且活动密封门能够旋转，方便安装和取下基片，无需使用梯子等爬高工具。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为活动密封门从腔体上拉出时的结构示意图；

图3为本实用新型的活动密封门内侧的基片安装插孔和遮蔽罩插孔的分布图；

图中：1-腔体；2-靶体；3-活动密封门；4-基片安装板；5-基片；6-底座；7-轴承二；8-支撑杆；9-轨道；10-托架；11-转轴；12-遮蔽罩插孔；13-支架；14-基片安装插孔；

以下将结合本实用新型的实施例参照附图进行详细叙述。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

如图1、2所示，一种嵌套式磁控溅射镀膜装置，其特征在于，包括腔体1、活动密封门3、靶体2和支架13，所述腔体1为横置的且一侧底部缺失圆柱形腔体，所述靶体2为柱体，所述靶体2横置于所述腔体1的内部中心，且所述靶体2的一端设有靶头，所述靶头上伸出有转轴11，所述转轴11穿出所述腔体1的底部之外与外接电机相连接，且所述转轴11与所述腔体1的底部之间安装有轴承一，

所述活动密封门3安装于所述腔体1的底部缺失的一侧，所述活动密封门3的内侧中心设有与所述靶体2的另一端相对应的底座6，所述活动密封门3的内侧表面沿圆周均布有多个基片安装插孔14，每个所述基片安装插孔14的长度方向与其所在的圆周的切线方向一致，所述基片安装插孔14的外围沿圆周均布有多个遮蔽罩插孔12，每个所述遮蔽罩插孔12的长度方向与其所在的圆周的切线方向一致，且每个所述遮蔽罩插孔12与两个相邻的所述基片安装插孔14之间的空隙相对应，所述基片安装插孔14中可拆卸地装有基片安装板4，所述基片安装板4上装有基片5，所述遮蔽罩插孔12中可拆卸地装有遮蔽板，

所述活动密封门3的外侧表面中心安装有支撑杆8，所述支撑杆8与所述活动密封门3之间安装有轴承二7，