[实用新型]一种显示基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201720527187.X 申请日: 2017-05-12
公开(公告)号: CN206774550U 公开(公告)日: 2017-12-19
发明(设计)人: 侯文军 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 显示装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示基板及显示装置。

背景技术

有机电致发光器件(OLED)相对于液晶显示器件(LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点,被认为是下一代显示技术。

在OLED显示器件中,都会采用到同层结构,即,不同像素区域中,功能相同的结构同层设置,通过喷墨打印工艺同一材料同时形成。而随着材料对电子和空穴传输能力的提升,同层结构之间相互串扰,影响产品性能。

实用新型内容

本实用新型提供一种显示基板及显示装置,用以解决OLED显示器件的同层结构相互串扰,影响产品性能的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种显示基板,包括像素界定层,用于限定多个像素区域,所述像素界定层的表面具有沟槽,所述沟槽位于相邻的两个像素区域之间。

如上所述的显示基板,其中,所述沟槽从与其相邻的像素区域的一侧延伸至相对的另一侧。

如上所述的显示基板,其中,所述沟槽包括:

沿行方向延伸的第一沟槽,位于相邻两行像素区域之间,和/或

沿列方向延伸的第二沟槽,位于相邻两列像素区域之间。

如上所述的显示基板,其中,所述沟槽的与所述沟槽的延伸方向的垂直的截面为梯形。

如上所述的显示基板,其中,所述梯形的侧面与所述显示基板所在平面之间的夹角大于70°。

如上所述的显示基板,其中,所述像素界定层由正性光刻胶材料制得,所述梯形为上大下小的倒梯形。

如上所述的显示基板,其中,所述像素界定层由负性光刻胶材料制得,所述梯形为上小下大的正梯形。

如上所述的显示基板,其中,所述显示基板还包括位于所述像素区域的有机电致发光器件;

所述沟槽与所述有机电致发光器件的位置对应,且所述沟槽的槽深不小于所述有机电致发光器件的厚度。

如上所述的显示基板,其中,所述沟槽的槽深大于300nm。

本实用新型实施例中还提供一种显示装置,包括如上所述的显示基板。

本实用新型的上述技术方案的有益效果如下:

上述技术方案中,通过像素界定层限定多个像素区域,并在像素界定层的表面设置沟槽,所述沟槽位于相邻的两个像素区域之间,形成隔断,降低相邻的两个像素区域中同层结构的连续性,从而减小同层结构之间的串扰问题,提高产品性能。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1表示本实用新型实施例中显示基板的结构示意图;

图2表示图1沿A-A的局部剖视图一;

图3表示图1沿A-A的局部剖视图二;

图4和图5表示本实用新型实施例中像素界定层的制作过程示意图。

具体实施方式

下面将结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。

结合图1-图3所示,本实用新型实施例中提供一种显示基板,尤其是一种有机电致发光显示基板。所述显示基板包括基底100和设置在基底100上的像素界定层1,用于限定多个像素区域200。每一像素区域200包括有机电致发光器件,用于发出所需颜色的光线,相邻的多个像素区域200的有机电致发光器件发出不同颜色的光线,配合实现彩色显示。有机电致发光器件具体可以为有机电致发光二极管,包括第一电极2和第二电极4,以及设置在第一电极2和第二电极4之间的有机发光层3,有机发光层3可以选择荧光材料、磷光材料等。当然,有机电致发光二极管还可以包括电子传输层、空穴传输层等功能层,在此不再一一详述。

其中,对于所有像素区域200,有机电致发光器件的具有相同功能的结构为同层结构,如:所有像素区域200的第一电极2、第二电极4和电子传输层、空穴传输层等功能层。当部分像素区域200的有机电致发光器件均发出相同颜色的光线时,所述部分像素区域200的有机电致发光器件的有机发光层3也为同层结构。

需要说明的是,本实用新型中涉及的同层结构是指:通过喷墨打印工艺在所有像素区域200内同时喷墨打印同一材料,形成位于多个像素区域200内的、具有相同功能的多个结构。所述多个结构即为同层结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720527187.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top