[实用新型]一种显示基板及显示装置有效
| 申请号： | 201720527187.X | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN206774550U | 公开（公告）日： | 2017-12-19 |
| 发明（设计）人： | 侯文军 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静,刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 显示 显示装置 | ||
1.一种显示基板，包括像素界定层，用于限定多个像素区域，其特征在于，所述像素界定层的表面具有沟槽，所述沟槽位于相邻的两个像素区域之间。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述沟槽从与其相邻的像素区域的一侧延伸至相对的另一侧。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述沟槽包括：
沿行方向延伸的第一沟槽，位于相邻两行像素区域之间，和/或
沿列方向延伸的第二沟槽，位于相邻两列像素区域之间。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述沟槽的与所述沟槽的延伸方向的垂直的截面为梯形。
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述梯形的侧面与所述显示基板所在平面之间的夹角大于70°。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层由正性光刻胶材料制得，所述梯形为上大下小的倒梯形。
7.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层由负性光刻胶材料制得，所述梯形为上小下大的正梯形。
8.根据权利要求1-7任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述像素区域的有机电致发光器件；
所述沟槽与所述有机电致发光器件的位置对应，且所述沟槽的槽深不小于所述有机电致发光器件的厚度。
9.根据权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述沟槽的槽深大于300nm。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的显示基板。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
