[实用新型]一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体

权利要求书

1.一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体，其特征在于：它包括

长条形块状底座（1）；

两条条状凹槽（111），前后间隔地设于长条形块状底座（1）上；

若干个大尺寸晶振放置腔（211），间隔地设在间隔分布的条状凹槽（111）之间的长条形块状底座（1）上，每一大尺寸晶振放置腔（211）向下凹陷形成；

若干个小尺寸晶振放置腔（212），与大尺寸晶振放置腔（211）一一对应并向下凹陷形成于所述大尺寸晶振放置腔（211）的腔底上；

第一相抵面（311），形成在大尺寸晶振放置腔（211）前侧的条状凹槽（111）上用于与放置到大尺寸晶振放置腔（211）上的晶振的前端相抵；

第二相抵面（312），形成在小尺寸晶振放置腔（212）前侧的条状凹槽（111）上用于与放置到小尺寸晶振放置腔（212）上的晶振的前端相抵；

第三相抵面（313），形成在大尺寸晶振放置腔（211）后侧的条状凹槽（111）上用于与放置到大尺寸晶振放置腔（211）上的晶振的后端相抵；

第四相抵面（314），形成在小尺寸晶振放置腔（212）前侧的条状凹槽（111）上用于与放置到小尺寸晶振放置腔（212）上的晶振的后端相抵。

2.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体，其特征在于：所述大尺寸晶振放置腔（211）左右侧的长条形块状底座（1）上设有档条（4）。

3.根据权利要求2所述的一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体，其特征在于：

所述档条（4）与长条形块状底座（1）为一体式结构。

4.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体，其特征在于：所述大尺寸晶振放置腔（211）呈至下而上扩大的扩口状。

5.根据权利要求1所述的一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体，其特征在于：所述小尺寸晶振放置腔（212）呈至下而上扩大的扩口状。