[实用新型]喷嘴有效

专利信息
申请号: 201720513496.1 申请日: 2017-05-08
公开(公告)号: CN206965954U 公开(公告)日: 2018-02-06
发明(设计)人: 陈勇州;古伊钧;林祺浩 申请(专利权)人: 华景电通股份有限公司
主分类号: B05B1/00 分类号: B05B1/00;H01L21/673
代理公司: 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙)11446 代理人: 项荣,康宁宁
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 喷嘴
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种喷嘴,特别是一种固定设置于用以对晶圆储存盒进行气体交换的机台上的喷嘴。

背景技术

在晶圆的生产过程中,晶圆在运送过程中,必需透过晶圆储存盒来进行运送,而为了避免晶圆表面的各种结构于运送过程中发生质变。相关生产厂商会利用特制的机台,来对晶圆储存盒内的气体进行交换,以使晶圆储存盒内充满相对稳定的气体。对于相关厂商而言,如何设计机台上的喷嘴,以避免机台对晶圆储存盒进行气体交换时,气体由喷嘴向外泄漏的问题,成为了制作该机台时最重要的问题之一。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种喷嘴,用以解决现有技术中,喷嘴容易在机台对晶圆储存盒内部的气体进行交换时,发生泄漏的问题。

为了实现上述目的,本实用新型提供一种喷嘴,其用以固定设置于一机台,机台用以提供一晶圆储存盒置放,而喷嘴能与晶圆储存盒的气孔相连接,而机台能通过喷嘴对晶圆储存盒充气或抽气,喷嘴包含:一基部及一抵顶部。基部为一圆柱状结构,基部的中心形成有一通气孔;基部的两端分别定义为一通气端及一连接端,基部具有一环状沟槽,环状沟槽用以与机台相互卡合,环状沟槽形成于基部的外周缘或基部形成通气孔的内壁;其中,基部的外周缘与基部形成通气孔的内壁距离定义为一最大厚度,最大厚度减去环状沟槽的深度定义为一最小厚度,通气孔的孔径不大于最大厚度的两倍,且环状沟槽的深度不大于最小厚度。抵顶部由基部的连接端向远离基部的方向延伸形成,抵顶部的中心形成有一穿孔,穿孔、通气孔及环状沟槽位于相同的中心轴线上,而穿孔与通气孔相互连通,抵顶部的最大外径不小于基部的最大外径,抵顶部相反于与基部相连接的一端具有平整的一顶面;其中,晶圆储存盒固定设置于机台时,抵顶部的部分能对应贴合于晶圆储存盒的气孔周缘,而穿孔及通气孔则能对应与晶圆储存盒的气孔相互连通。

优选地,该抵顶部包含有多个环状气密结构,该些环状气密结构由该顶面向远离该基部的方向凸出延伸形成,且该些环状气密结构彼此间隔地设置。

优选地,各该环状气密结构与该穿孔位于相同的中心轴线上;最接近该穿孔的该环状气密结构的内环侧壁,不与形成该穿孔的内壁共平面。

优选地,最远离该穿孔的该环状气密结构的外环侧壁,与该穿孔的中心轴线的距离,不大于该基部的外环侧壁与该通气孔的中心轴线的距离。

优选地,该些环状气密结构相反于与该顶面相连接的一接触表面位于相同的平面;其中,该晶圆储存盒固定设置于该机台时,各该环状气密结构的该接触表面能对应贴合于该晶圆储存盒的气孔周缘。

优选地,该抵顶部的厚度由邻近于该基部的位置,向远离该基部的方向逐渐递减。

优选地,该抵顶部具有一辅助环状沟槽,该辅助环状沟槽形成于该抵顶部形成该穿孔的内壁,且该辅助环状沟槽与该环状沟槽彼此相连通。

优选地,该抵顶部相反于与该基部相连接的一端内凹形成有一卡合槽,该卡合槽与该穿孔相互连通,且该卡合槽的孔径大于该穿孔的孔径,该顶面形成于该卡合槽与该穿孔相连接的位置;该卡合槽用以与位于该晶圆储存盒的气孔周缘的结构相互卡合。

优选地,该环状沟槽形成于该基部形成该通气孔的内壁,该基部的外周缘向外延伸形成有一强化结构,该强化结构与该抵顶部相互连接,而该抵顶部的外周缘与该强化结构的外周缘位于同一弧面。

优选地,该抵顶部邻近于该穿孔的位置形成有一环状斜面,该环状斜面由远离该基部的一端向该穿孔的中心轴线方向倾斜设置。

本实用新型的有益效果可以在于:透过基部及抵顶部的设计,可以有效地加强喷嘴与晶圆储存盒接触时的气密度,而降低喷嘴于机台对晶圆储存盒内部进行气体交换时发生气体泄漏的问题。

附图说明

图1为本实用新型的喷嘴设置于机台上的示意图。

图2、3为本实用新型的喷嘴的第一实施例的示意图。

图4、5为本实用新型的喷嘴的第二实施例的示意图。

图6、7为本实用新型的喷嘴的第三实施例的示意图。

图8、9为本实用新型的喷嘴的第四实施例的示意图。

图10、11为本实用新型的喷嘴的第五实施例的示意图。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华景电通股份有限公司,未经华景电通股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720513496.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top