[实用新型]电容屏结构有效
| 申请号： | 201720486622.9 | 申请日： | 2017-05-03 |
| 公开（公告）号： | CN206863718U | 公开（公告）日： | 2018-01-09 |
| 发明（设计）人： | 范金智 | 申请（专利权）人： | 华显光电技术（惠州）有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/044 | 分类号： | G06F3/044 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 516006 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电容 结构 | ||
1.一种电容屏结构，包括电容屏功能层及玻璃基板，所述电容屏功能层印设于所述玻璃基板的表面，其特征在于，还包括容值测试图案组，所述容值测试图案组印设于所述玻璃基板表面的空白区域；所述容值测试图案组包括若干条ITO图案，所述若干条ITO图案排列分布于所述空白区域，所述容值测试图案组中的各条ITO图案的宽度相异。
2.根据权利要求1所述的电容屏结构，其特征在于，所述容值测试图案组中的每一条ITO图案的宽度依次递增。
3.根据权利要求1所述的电容屏结构，其特征在于，所述空白区域邻近所述电容屏功能层，所述若干条ITO图案呈一排分布于所述空白区域。
4.根据权利要求3所述的电容屏结构，其特征在于，呈一排分布的所述容值测试图案组中的每一条ITO图案的宽度依次递增。
5.根据权利要求1所述的电容屏结构，其特征在于，所述空白区域邻近所述电容屏功能层，所述若干条ITO图案呈一列分布于所述空白区域。
6.根据权利要求5所述的电容屏结构，其特征在于，所述容值测试图案组中的每一条ITO图案的宽度朝着远离所述电容屏功能层的方向依次递增。
7.根据权利要求3或6所述的电容屏结构，其特征在于，所述ITO图案的数量为3～7条。
8.根据权利要求7所述的电容屏结构，其特征在于，所述ITO图案的数量为5条，5条所述ITO图案的宽度依次为6微米、8微米、10微米、12微米以及14微米。
9.根据权利要求1所述的电容屏结构，其特征在于，所述ITO图案为矩形。
10.根据权利要求9所述的电容屏结构，其特征在于，所述若干条ITO图案等间距分布于所述空白区域。
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