[实用新型]清洗设备有效
| 申请号: | 201720474012.7 | 申请日: | 2017-04-28 |
| 公开(公告)号: | CN206672899U | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
| 发明(设计)人: | 曹飞;吴文泽;井昱 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;B08B3/00;B08B7/04 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 黄德海 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 清洗 设备 | ||
1.一种清洗设备,其特征在于,包括:
多个盛放部,多个所述盛放部并排设置且分别盛放有不同的清洗液;
用于取放掩膜板的取放装置,所述取放装置在多个所述盛放部的排列方向上可移动;
干燥装置,在所述取放装置将所述掩膜板从所述盛放部内取出时,所述干燥装置用于干燥所述掩膜板。
2.根据权利要求1所述的清洗设备,其特征在于,所述干燥装置包括:气刀。
3.根据权利要求2所述的清洗设备,其特征在于,所述气刀设在所述盛放部上。
4.根据权利要求3所述的清洗设备,其特征在于,每个所述盛放部对应设有两个所述气刀,与每个所述盛放部对应设置的两个所述气刀相对设置。
5.根据权利要求2所述的清洗设备,其特征在于,所述干燥装置还包括支撑杠,所述气刀安装在所述支撑杠上。
6.根据权利要求5所述的清洗设备,其特征在于,所述支撑杠为丝杠,所述支撑杠安装在所述取放装置上且适于带动所述气刀上下移动。
7.根据权利要求6所述的清洗设备,其特征在于,在所述取放装置向上移动以取出所述掩膜板时,所述支撑杠带动所述气刀向下移动以向所述掩膜板吹气。
8.根据权利要求5-7中任一项所述的清洗设备,其特征在于,所述干燥装置为两个,两个所述干燥装置分别设在所述取放装置的两侧。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720474012.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种急诊护理用的输液结构
- 下一篇:一种急诊护理用的过道输液座椅
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





