[实用新型]一种高分子合成反应装置

权利要求书

1.一种高分子合成反应装置，其特征在于，包括反应釜(1)、进料斗(2)、布料盘(3)、诱发剂喷淋管路、旋流搅拌轴、驱动电机(6)和加热管(7)；所述进料斗(2)设置在反应釜(1)的顶端，所述布料盘(3)设置在进料斗(2)的出料口处，且所述进料斗(2)置于反应釜(1)内的顶部，在所述进料斗(2)的顶部设置有斗盖(21)；所述诱发剂喷淋管路设置在反应釜(1)内周壁上；所述加热管(7)置于反应釜(1)内底部；

所述驱动电机(6)嵌入在反应釜(1)的底部，且所述驱动电机(6)的转动端连接旋流搅拌轴的底端；所述旋流搅拌轴包括搅拌转轴(51)和搅拌叶片(52)，多个所述搅拌叶片(52)呈螺旋上升式依次设置在搅拌转轴(51)的周壁上，且所述搅拌叶片(52)倾斜设置在搅拌转轴(51)上。

2.根据权利要求1所述的一种高分子合成反应装置，其特征在于，在所述反应釜(1)的底部设置有排料口(8)，所述排料口(8)上设置有盖子。

3.根据权利要求2所述的一种高分子合成反应装置，其特征在于，在所述排料口(8)的边缘处设置有密封圈。

4.根据权利要求1所述的一种高分子合成反应装置，其特征在于，所述搅拌叶片(52)的长度由下到上依次递减。

5.根据权利要求1所述的一种高分子合成反应装置，其特征在于，所述诱发剂喷淋管路包括横穿反应釜(1)外侧壁的诱发剂进料管(41)、设置在反应釜(1)侧壁内的喷淋管(42)和间隔设置在喷淋管(42)上的喷淋头(43)。

6.根据权利要求1所述的一种高分子合成反应装置，其特征在于，所述布料盘(3)上均匀分布有布料孔(31)。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的一种高分子合成反应装置，其特征在于，在所述反应釜(1)的周壁上设置有保温层。