[实用新型]一种新型地面抛光磨块有效
| 申请号： | 201720424319.6 | 申请日： | 2017-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN206869704U | 公开（公告）日： | 2018-01-12 |
| 发明（设计）人： | 夏珂 | 申请（专利权）人： | 福州邦泰金研金刚石工具制造有限公司 |
| 主分类号： | B24D7/18 | 分类号： | B24D7/18 |
| 代理公司： | 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)35219 | 代理人： | 林祥翔,吕元辉 |
| 地址： | 350101 福建省福州市闽候经济技术开发区一*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 地面 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型地面抛光磨块，其特征在于，所述磨块包括圆形的金刚石研磨体，所述研磨体上设置有多个抛光块，且至少一个抛光块的抛光面是由抛光平面与斜面组成，所述斜面与抛光平面共用边为斜面的最高边，所述的多个抛光块之间通过纵横交错的凹槽相连通；所述研磨体包括正面和反面，所述抛光块设置于研磨体的正面，所述研磨体的反面还设置有魔术贴毛面，所述魔术贴毛面通过胶黏剂固定在所述研磨体上，所述研磨体与抛光块一体热压成型。
2.如权利要求1所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述抛光面由一个抛光平面和一个或者两个斜面组成，所述斜面与抛光平面共用边为各斜面的最高边。
3.如权利要求2所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述抛光平面是由一个抛光平面和两个斜面组成的抛光块数量为4个，分别分布于研磨体的圆心位置的左上、右上、左下、右下位置，4个抛光块大小相同、且以研磨体的圆心为旋转对称中心旋转对称，旋转角为π/2。
4.根据权利要求1或2所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述抛光磨块的厚度为5-15mm。
5.根据权利要求1或2所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述研磨体的直径为80-84mm。
6.根据权利要求1或2所述的新型地面抛光磨块，其特征在于，所述研磨体和抛光块均为高分子树脂材料为结合剂的金刚石研磨体和抛光块。
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