[实用新型]平面异物检知量测装置及曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及基板检测技术领域，特别地涉及一种平面异物检知量测装置及曝光机。

背景技术

接近式彩膜曝光机主要负责进行玻璃基板彩色光刻胶(即光阻)涂布预烘后的曝光，曝光后的玻璃基板才能在显影、烘烤后形成特定的图样格式。在此过程中，待曝光的涂布玻璃基板92(Work Glass)与曝光光罩91(Mask)的距离93 (Gap)为100～400微米(如图1所示)。由于涂布玻璃基板经历流程较多，而且在初步固化过程中会有升华物等异物(Particle)脱落掉在涂布玻璃基板的表面。当异物的高度大于涂布玻璃基板与曝光光罩之间的距离时，在曝光过程中异物会与曝光光罩发生接触导致划伤曝光光罩。当前的接近式曝光机在曝光前都会有异物检知装置，来检测异物的大小，当检知到的异物高度值大于上述的距离时，会报警判涂布玻璃基板为非工作状态，不进入曝光程序。

现有的接近式曝光机的异物检出方式是通过LED光源94和线传感器相机95 (如图2和3所示)进行拍摄并将阈值参数还原，从而检出异物。但是上述现有异物检出方法存在以下的缺陷：检出效率低，受光线强度影响大，因此容易发生误检造成损失，耽误正常生产进度。

实用新型内容

本实用新型提供一种平面异物检知量测装置及曝光机，用于解决现有技术中存在的检出效率低、容易发生误检的技术问题。

本实用新型提供一种平面异物检知量测装置，包括操作台和信号发射接收装置，所述信号发射接收装置滑动的设置于所述操作台的侧边，所述操作台用于放置基板，所述信号发射接收装置用于量测所述基板上的异物；

所述信号发射接收装置包括信号发射器和信号接收器，所述信号发射器和所述信号接收器分别设置于操作台相对的两侧；

所述信号接收器上设置有用于接收和显示所述信号发射器发射的信号信号接收部。

在一个实施方式中，所述信号接收部为沿垂直于所述操作台方向延伸的凹槽和设置在所述凹槽上的传感器。

在一个实施方式中，所述信号接收部的最低点低于基板的上表面。

在一个实施方式中，所述信号接收器上设置有用于将所述传感器接收到的信号传递到中央处理器的数据传输接口。

在一个实施方式中，所述信号接收部上设置有刻度层，所述刻度层的零刻线与基板的上表面齐平。

在一个实施方式中，所述信号接收器上设置有测量单元，所述测量单元与中央处理器信号连接，所述测量单元用于测量所述信号接收部上显示的高度信息并传送到所述中央处理器。

在一个实施方式中，包括至少两个所述发射接收装置，且所述信号发射接收装置分别沿所述操作台的长边方向和所述操作台的短边方向设置。

在一个实施方式中，还包括动力单元，所述动力单元与所述信号发射接收装置相连。

在一个实施方式中，所述动力单元包括电机和导轨机构，所述导轨机构上设置有滑块，所述电机与所述滑块传动连接；所述信号发射接收装置固定于所述滑块上。

在一个实施方式中，所述信号发射器为激光发射器，所述信号接收器为激光接收器。

本实用新型还提供一种曝光机，包括上述的平面异物检知量测装置。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

(1)通过信号发射器能够向信号接收器中发射信号，当基板上有异物时，会将遮挡一部分由信号发射器中发出的信号，从而使信号接收部上部分区域内没有相应的信号，该没有信号的区域的高度即为基板上异物的高度，因此能够方便的监测出异物的高度值；与此同时，通过移动信号发射接收装置，即可量测平行于移动方向的高度的集合，即可获得该方向上的截面的大小。

(2)通过设置两个以上的信号发射接收装置，能够分别量测沿基板的长边方向和短边方向上将基板上异物进行准确的定位，从而方便后续的清洁操作。

(3)通过信号发射接收装置来检知和量测基板上的异物，其效率高、不会受到光照等条件的限制，避免了传统量测方式中受到光线强度的限制而造成的效率低以及出现误检而带来的损失。

附图说明

在下文中将基于实施例并参考附图来对本实用新型进行更详细的描述。

图1是现有技术中曝光光罩的结构示意图；

图2是现有技术中量测装置的俯视图；

图3是现有技术中量测装置的左视图；

图4是本实用新型的一个实施例中平面异物检知量测装置的立体结构示意图；

图5是本实用新型的一个实施例中信号接收器的立体结构示意图；