[实用新型]透射式辐射成像系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及辐射成像领域，特别是涉及一种透射式辐射成像系统。

背景技术

利用辐射成像对车辆及货物等大型目标进行检查已是比较成熟的安检技术，根据成像原理不同，主要有透射式辐射成像和散射式辐射成像两大类。

一般来说，透射式辐射成像系统主要由辐射源、位于被扫描物体另一侧的探测器组成，辐射源用于向被扫描物体发射扫描射线束，探测器用于接收从被扫描物体透射的辐射信号，所接收到的辐射信号反映了被照物体的密度、厚度甚至材料等信息，可显示物体的内部结构，因此可以根据探测器探测到的辐射信号形成被检测物体的透射图像。

基于透射式辐射成像原理形成的透射图像显示的是扫描射线束在传播路径上穿透的所有物质的投影信息，因此在扫描射线束的传播路径上的被检查物体是多个叠加物体时，基于探测器接收到的透射信号形成的透射图像不能很好地分辨前后重叠的多个物体。目前，可以使用CT扫描技术解决上述重叠问题，但对于车辆这类大型物体的检查，使用CT扫描技术难度和成本极高，且检查效率极低，实际应用性价比极低。

由此，需要一种能够方便有效地解决前后物体重叠问题的透射式辐射成像系统。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种能够以不同视角对被检测物体进行检测的透射式辐射成像系统，以解决透射式图像中存在的前后物体重叠的问题。

根据本实用新型的一个方面，提供了一种透射式辐射成像系统，包括：辐射源，用于向被检测物体发射用于成像的辐射束；多个探测器阵列，每个探测器阵列包括一个或多个探测器，不同的探测器阵列适于设置在不同的位置，用于接收以不同角度从被检测物体透射的辐射束；以及辐射束调制装置，用于对辐射源发射的辐射束进行调制，以使得辐射源具有多种发射模式，其中，不同发射模式下入射到被检测物体上的辐射束的入射角度或入射角度组合不同，并且不同发射模式下接收到辐射束的探测器阵列或探测器阵列组合不同。

优选地，辐射束调制装置可以包括：屏蔽体，屏蔽体上设有狭缝，辐射源发射的辐射束能够通过狭缝出射出去；控制装置，用于控制屏蔽体绕辐射源旋转，以使得狭缝具有多个位置状态，多个位置状态与多个探测器阵列一一对应，从每个位置状态下的狭缝出射的辐射束的出射方向基本上垂直于与其对应的探测器阵列的探测面，并且基本上过所述探测面的中心。

优选地，辐射束调制装置可以包括：屏蔽体，屏蔽体上设有与多个探测器阵列一一对应的狭缝，辐射源发射的辐射束能够通过狭缝出射出去，从每个狭缝出射的辐射束的出射方向基本上垂直于与其对应的探测器阵列的探测面，并且基本上过所述探测面的中心；遮挡装置，用于控制从屏蔽体上的狭缝出射的辐射束的遮挡状态。

优选地，遮挡装置可以包括：准直器，准直器上设有一个或多个准直缝，通过移动准直器，改变准直器上的准直缝与屏蔽体上的狭缝的对准状态，其中，从辐射源出射的辐射束能够依次从处于对准状态的狭缝和准直缝出射出去。

优选地，准直器包括一个或多个固定部分和一个或多个活动部分，通过移动一个或多个活动部分，在一个或多个活动部分和一个或多个固定部分之间形成与屏蔽体上的一个或多个狭缝对准的准直缝。

优选地，遮挡装置可以包括：挡块，通过移动挡块，控制从屏蔽体上的狭缝出射的辐射束的遮挡状态。

优选地，辐射成像系统还可以包括：准直器，准直器上设有与屏蔽体上的狭缝一一对应的准直缝，挡块设置在屏蔽体和准直器之间。

优选地，辐射成像系统还可以包括：副屏蔽体，设置在所述挡块两侧，用于屏蔽辐射束入射到所述挡块后产生的散射辐射束。

优选地，在辐射束调制装置的调制作用下，辐射源具有两种发射模式，第一种发射模式下入射到被检测物体上的第一辐射束的入射角度与被检测物体的长度方向垂直，第二种发射模式下入射到被检测物体上的第二辐射束与第一辐射束之间的夹角5°≤α≤10°。

优选地，透射式辐射成像系统还可以包括图像处理装置，用于对多个探测器阵列中不同探测器阵列接收到的辐射束进行处理以形成不同视角下的扫描图像。

优选地，辐射源能够绕预定的转轴在预定的角度范围内进行旋转，以使得辐射源在旋转过程中能够发射适于被不同探测器阵列接收到的辐射束。