[实用新型]透射式辐射成像系统

权利要求书

1.一种透射式辐射成像系统，其特征在于，包括：

辐射源，用于向被检测物体发射用于成像的辐射束；

多个探测器阵列，每个探测器阵列包括一个或多个探测器，不同的探测器阵列适于设置在不同的位置，用于接收以不同角度从所述被检测物体透射的辐射束；以及

辐射束调制装置，用于对所述辐射源发射的辐射束进行调制，以使得所述辐射源具有多种发射模式，其中，不同发射模式下入射到所述被检测物体上的辐射束的入射角度或入射角度组合不同，并且不同发射模式下接收到辐射束的探测器阵列或探测器阵列组合不同。

2.根据权利要求1所述的透射式辐射成像系统，其特征在于，所述辐射束调制装置包括：

屏蔽体，所述屏蔽体上设有狭缝，所述辐射源发射的辐射束能够通过所述狭缝出射出去；

控制装置，用于控制所述屏蔽体绕所述辐射源旋转，以使得所述狭缝具有多个位置状态，所述多个位置状态与所述多个探测器阵列一一对应，从每个位置状态下的狭缝出射的辐射束的出射方向基本上垂直于与其对应的探测器阵列的探测面，并且基本上过所述探测面的中心。

3.根据权利要求1所述的透射式辐射成像系统，其特征在于，所述辐射束调制装置包括：

屏蔽体，所述屏蔽体上设有与所述多个探测器阵列一一对应的狭缝，所述辐射源发射的辐射束能够通过所述狭缝出射出去，从每个所述狭缝出射的辐射束的出射方向基本上垂直于与其对应的探测器阵列的探测面，并且基本上过所述探测面的中心；

遮挡装置，用于控制从所述屏蔽体上的狭缝出射的辐射束的遮挡状态。

4.根据权利要求3所述的辐射成像系统，其特征在于，所述遮挡装置包括：

准直器，所述准直器上设有一个或多个准直缝，通过移动所述准直器，改变所述准直器上的准直缝与所述屏蔽体上的狭缝的对准状态，

其中，从所述辐射源出射的辐射束能够依次从处于对准状态的狭缝和准直缝出射出去。

5.根据权利要求4所述的辐射成像系统，其特征在于，所述准直器包括一个或多个固定部分和一个或多个活动部分，

通过移动一个或多个所述活动部分，在一个或多个所述活动部分和一个或多个所述固定部分之间形成与所述屏蔽体上的一个或多个所述狭缝对准的准直缝。

6.根据权利要求3所述的辐射成像系统，其特征在于，所述遮挡装置包括：

挡块，通过移动所述挡块，控制从所述屏蔽体上的狭缝出射的辐射束的遮挡状态。

7.根据权利要求6所述的辐射成像系统，其特征在于，还包括：

准直器，所述准直器上设有与所述屏蔽体上的狭缝一一对应的准直缝，所述挡块设置在所述屏蔽体和所述准直器之间。

8.根据权利要求7所述的辐射成像系统，其特征在于，还包括：

副屏蔽体，设置在所述挡块两侧，用于屏蔽辐射束入射到所述挡块后产生的散射辐射束。

9.根据权利要求1所述的透射式辐射成像系统，其特征在于，在所述辐射束调制装置的调制作用下，所述辐射源具有两种发射模式，

第一种发射模式下入射到所述被检测物体上的第一辐射束的入射角度与所述被检测物体的长度方向垂直，

第二种发射模式下入射到所述被检测物体上的第二辐射束与所述第一辐射束之间的夹角5°≤α≤10°。

10.根据权利要求1至9中任何一项所述的透射式辐射成像系统，其特征在于，还包括：

图像处理装置，用于对所述多个探测器阵列中不同探测器阵列接收到的辐射束进行处理以形成不同视角下的扫描图像。

11.根据权利要求1至9中任何一项所述的透射式辐射成像系统，其特征在于，所述辐射源能够绕预定的转轴在预定的角度范围内进行旋转，以使得所述辐射源在旋转过程中能够发射适于被不同探测器阵列接收到的辐射束。