[实用新型]一种用于光学元件的光轴调节装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学元件领域，具体涉及一种光学元件的光轴调节装置。

背景技术

在隔离器、环形器、梳状滤波器等一些无缘器件中会用到隔离器或者旋光器，隔离器或旋光器需要调节光轴，一般是圆形的，即圆形磁环。常规调节隔离器或旋光器的光轴的做法是在圆形磁环两边放置两个垫块固定，该方法粘接不牢固，在调节光轴过程中，圆形磁环常会移动或晃动，可靠性差，导致调节效果不好。

实用新型内容

针对上述现有技术的不足，本实用新型的主要目的是提供一种用于光学元件的光轴调节装置，该光轴调节装置是带有圆弧型承载面的承载台，该承载台能有效固定圆形磁环，方便调节光轴。

为实现上述目的，本实用新型公开的技术方案是：一种用于光学元件的光轴调节装置，所述光轴调节装置包括：承载台、磁环，所述承载台上设有凹槽，所述凹槽的宽度小于所述磁环的外径；所述凹槽的深度大于所述磁环的壁厚；所述凹槽呈圆柱面弧形凹槽。

优选的，所述承载台的高度在0.5-2.5mm之间。

优选的，所述磁环的内径在0.5-2.0mm之间。

优选的，所述磁环的外径在1.0-3.0mm之间。

优选的，所述凹槽的深度在0.05-1.0mm之间。

优选的，所述凹槽的长度在0.3-1.5mm之间。

优选的，所述磁环的壁厚在0.2-1.0mm之间。

本实用新型的有益效果是：本实用新型所述的光学元件的光轴调节装置通过承载台上的凹槽的合理设置，能够使磁环稳定的固定在承载台上，方便光学元件调节光轴；并且磁环可以顺畅的旋转角度，利于光轴调节；磁环在承载台上粘结稳固，可靠性好。

附图说明

图1是本实用新型用于光学元件的光轴调节装置的一较佳实施例的结构示意图；

图2是图1的另一角度示意图；

图3是图1的俯视示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参考附图1-3，本实用新型实施例包括：

实施例1：一种用于光学元件的光轴调节装置，所述光轴调节装置包括：承载台1、磁环2，承载台1上设有凹槽3，凹槽3的宽度小于磁环2的外径；凹槽3的深度大于磁环2的壁厚b；凹槽3呈圆柱面弧形凹槽。

实施例2：本实施例与实施例1的不同之处在于，本实施例中，承载台1的高度在0.5-2.5mm之间。磁环2的内径在0.5-2.0mm之间。磁环2的外径在1.0-3.0mm之间。凹槽3的深度在0.05-1.0mm之间。凹槽3的长度在0.3-1.5mm之间。磁环2的壁厚在0.2-1.0mm之间。

实施例3：本实施例与实施例1的不同之处在于，本实施例中，承载台1的高度在1.0-2.5mm之间。磁环2的内径在0.8-1.8mm之间。磁环2的外径在1.2-2.5mm之间。凹槽3的深度在0.2-1.0mm之间。凹槽3的长度在0.5-1.2mm之间。磁环2的壁厚在0.5-1.0mm之间。

实施例4：一种用于光学元件的光轴调节装置，所述光轴调节装置包括：承载台1、磁环2，承载台1上设有凹槽3，凹槽3的宽度小于磁环2的外径；凹槽3的深度大于磁环2的壁厚b；凹槽3呈圆柱面弧形凹槽。本实施例中，承载台1的高度为2mm，磁环2的内径为1.5mm。凹槽3的深度为0.8mm。凹槽3的长度为0.8mm。磁环2的壁厚为0.2mm。

实施例5：一种用于光学元件的光轴调节装置，所述光轴调节装置包括：承载台1、磁环2，承载台1上设有凹槽3，凹槽3的宽度小于磁环2的外径；凹槽3的深度大于磁环2的壁厚b；凹槽3呈圆柱面弧形凹槽。本实施例中，承载台1的高度为2.5mm，磁环2的内径为1mm。凹槽3的深度为1mm。凹槽3的长度为1mm。磁环2的壁厚为0.5mm。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。