[实用新型]一种用于光学元件的光轴调节装置有效
| 申请号: | 201720365260.8 | 申请日: | 2017-04-10 |
| 公开(公告)号: | CN206649203U | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
| 发明(设计)人: | 蒋延标;秦明海;王正兴;陈雷华 | 申请(专利权)人: | 苏州东辉光学有限公司 |
| 主分类号: | G02B7/00 | 分类号: | G02B7/00 |
| 代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司44214 | 代理人: | 关家强,吴伟文 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 光学 元件 光轴 调节 装置 | ||
1.一种用于光学元件的光轴调节装置,其特征在于,所述光轴调节装置包括:承载台、磁环,所述承载台上设有凹槽,所述凹槽的宽度小于所述磁环的外径;所述凹槽的深度大于所述磁环的壁厚;所述凹槽呈圆柱面弧形凹槽。
2.根据权利要求1所述的光轴调节装置,其特征在于,所述承载台的高度在0.5-2.5mm之间。
3.根据权利要求1所述的光轴调节装置,其特征在于,所述磁环的内径在0.5-2.0mm之间。
4.根据权利要求1所述的光轴调节装置,其特征在于,所述磁环的外径在1.0-3.0mm之间。
5.根据权利要求1所述的光轴调节装置,其特征在于,所述凹槽的深度在0.05-1.0mm之间。
6.根据权利要求1所述的光轴调节装置,其特征在于,所述凹槽的长度在0.3-1.5mm之间。
7.根据权利要求1所述的光轴调节装置,其特征在于,所述磁环的壁厚在0.2-1.0mm之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州东辉光学有限公司,未经苏州东辉光学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720365260.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





