[实用新型]一种基于机器视觉的磁瓦缺陷检测取相系统

权利要求书

1.一种基于机器视觉的磁瓦缺陷检测取相系统，包括用于对磁瓦的内/外弧面进行打光和取相的内/外弧面磨歪检测取相模块；用于对所述磁瓦的外弧面进行打光和取相的1/2外弧面其他缺陷检测取相模块；用于对所述磁瓦的内弧面进行打光和取相的内弧面其他缺陷检测取相模块；用于对所述磁瓦的边面进行打光和取相的边面缺陷检测取相模块；用于对所述磁瓦的端面进行打光和取相的端面缺陷检测取相模块；其特征在于，所述内/外弧面磨歪检测取相模块包括：

第一条光源，所述第一条光源包括左侧第一条光源和右侧第一条光源，所述左侧第一条光源和所述右侧第一条光源与所述磁瓦的直边中点连线所在垂直平面夹锐角对称；

第一相机，用于拍摄所述磁瓦的内/外弧面，且位于所述磁瓦的内/外弧面几何中心的正上方；

其中，所述磁瓦位于所述第一条光源的光源区域中央。

2.根据权利要求1所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述第一条光源与所述磁瓦的直边中点连线所在垂直平面的相对位置和夹角均可调。

3.根据权利要求1所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述磁瓦缺陷检测取相系统包括关于所述磁瓦的弧边法线所在平面对称的两个所述1/2外弧面其他缺陷检测取相模块。

4.根据权利要求3所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述1/2外弧面其他缺陷检测取相模块包括：

第二条光源，所述第二条光源包括左侧第二条光源和右侧第二条光源，所述左侧第二条光源和所述右侧第二条光源与所述磁瓦弧边1/4圆弧法线所在的平面夹锐角对称；

第一圆顶光源，位于所述磁瓦上方的所述磁瓦弧边1/4圆弧法线方向；

第二相机，用于拍摄所述磁瓦的外弧面，且位于所述磁瓦上方的所述磁瓦弧边1/4圆弧法线方向以及所述第一圆顶光源的上方；

其中，所述磁瓦位于所述第二条光源和所述第一圆顶光源的光源区域中央，所述第二相机的镜头中心与所述第一圆顶光源的中心重合。

5.根据权利要求4所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述第二条光源与所述磁瓦弧边的1/4圆弧法线所在平面的相对位置和夹角均可调，所述第一圆顶光源与所述磁瓦弧边的1/4圆弧法线的相对位置可调。

6.根据权利要求1所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述内弧面其他缺陷检测取相模块包括：

第三条光源，所述第三条光源包括左侧第三条光源和右侧第三条光源，所述左侧第三条光源和所述右侧第三条光源与所述磁瓦弧边1/2圆弧法线所在平面夹锐角对称；

第一同轴光源，位于所述磁瓦上方的所述磁瓦弧边1/2圆弧法线方向；

第三相机，用于拍摄所述磁瓦的内弧面，位于所述磁瓦上方的所述磁瓦弧边1/2圆弧法线方向以及所述第一同轴光源的上方；

其中，所述磁瓦位于所述第三条光源和所述第一同轴光源的光源区域中央，所述第三相机的镜头中心与所述第一同轴光源的中心重合。

7.根据权利要求6所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述第三条光源与所述磁瓦弧边1/2圆弧法线所在平面的相对位置和夹角均可调，所述第一同轴光源与所述磁瓦弧边1/2圆弧法线的相对位置可调。

8.根据权利要求1所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述边面缺陷检测取相模块包括：

第四条光源，所述第四条光源包括左侧第四条光源和右侧第四条光源，所述左侧第四条光源和所述右侧第四条光源分别与所述磁瓦的左右边面平行；

第四相机，用于拍摄所述磁瓦的边面，位于所述磁瓦弧面的几何中心的正上方；

其中，所述磁瓦的边面位于所述第四条光源的光源区域中央。

9.根据权利要求8所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述第四条光源与所述边面所在平面的相对位置和夹角均可调。

10.根据权利要求1所述的磁瓦缺陷检测取相系统，其特征在于，所述端面缺陷检测取相模块包括：

第二同轴光源，与所述磁瓦的端面平行；

第五相机，用于拍摄所述磁瓦的端面，所述第五相机的镜头平面与所述磁瓦的端面平行；

其中，所述磁瓦端面位于所述第二同轴光源的光源区域中央，且所述第二同轴光源位于所述磁瓦和所述第五相机之间；

所述第二同轴光源与所述端面所在平面的相对位置可调。