[实用新型]光学检查设备

说明书

技术领域

本实用新型与光学检查有关，特别是指一种光学检查设备。

背景技术

光学检查技术用以检查待测物的表面是否存在脏污或内部某一层的图案是否存在断线、短路及脏污(particle)，以确保待测物符合特定质量要求。

待测物以晶圆、光罩或玻璃基板为例，由于晶圆、光罩或玻璃基板都是透明的，目前，检查待测物的上表面时，通常会让光源照射的入射光轴与待测物的上表面形成的锐角角度接近0度，如此，以确保影像捕获设备仅撷取待测物的上表面的影像，来降低待测物底层或内部的影像所造成的干扰。但这种方式通常需搭配图像处理技术来滤除非待测物上表面的影像，而增加检查步骤的繁琐。

再者，一般脏污都是立体的，例如颗粒、线或粉末等，因此，光线照射脏污时，脏污的另一面会产生阴影，而使影像捕获设备无法准确获得脏污的实际尺寸。

另一种方式，例如中国台湾发明第I534409号专利揭露一种光学检测系统，其通过影像捕获设备的撷取光轴与入射光轴于待测物的上表面的法线呈对称关系，这种配置虽然可以改善脏污阴影的问题，但仍无法快速检查待测物。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光学检查设备，其可应用于检查待测物的特定层，例如顶层、底面或其内部的特定层，且不会受到待测物的其他层影像干扰。

为达成上述目的，本实用新型的光学检查设备包括一光源装置、一滤光装置以及一影像捕获设备。光源装置沿一入射光轴照射一待测物并在待测物的一脏污形成漫反射光。影像捕获设备沿一漫反射光轴接收通过滤光装置的漫反射光。漫反射光轴与入射光轴相对于待测物的一法线呈不对称。其中，滤光装置仅允许沿漫反射光轴的漫反射光通过滤光装置。

其中，该滤光装置包括一顶面、一底面及一漫反射通道，该漫反射通道贯穿该顶面及该底面，该漫反射光轴通过该漫反射通道。

其中，该滤光装置包括一入射通道，该入射通道贯穿该顶面及底面，且供该入射光轴通过，并与该底面形成一第一锐角，该漫反射通道与该底面形成一第二锐角，该第一锐角的角度与该第二锐角的角度不相同。

其中，该第一锐角的角度介于50-75度之间，该第二锐角的角度介于50-80度之间。

其中，该滤光装置包括一定位系统，该光源装置沿该入射光轴照射该待测物，在该待测物上形成反射光，该影像捕获设备接收通过该定位系统的反射光。

其中，该定位系统包括贯穿该顶面及该底面的一第一定位通道及一第二定位通道，该第一定位通道与该入射通道相互连通，该第二定位通道与该漫反射通道相互连通，该第一定位通道及该第二定位通道位于该滤光装置相同侧边。

其中，该光源装置包括一发光二极管。

如此，当待测物上不存在脏污时，沿入射光轴照射的光线在待测物上依循反射定理反射，因此，反射光线将被滤光装置滤除(挡住)。当沿入射光轴照射的光线照射到待测物上的脏污时，光线在脏污上形成漫反射光，以使位于漫反射光轴的反射光被影像捕获设备接收，而形成对应图案，以达成快速检查及避免阴影干扰。

附图说明

图1是本实用新型的光学检查设备的示意图。

图2是本实用新型的光学检查设备的滤光装置的顶视示意图。

图3是本实用新型的光学检查设备检查到待测物的顶层有脏污的示意图。

图4是本实用新型的光学检查设备的影像捕获设备检查待测物后得到的影像。

其中，附图标记：

10 光学检查设备

11 光源装置

111 入射光轴

113 反射光轴

115 漫反射光轴

117 法线

119 内反射光

13 滤光装置

131 顶面

133 底面

135 入射通道

1351 第一定位通道

137 漫反射通道

1371 第二定位通道

15 影像捕获设备

30 待测物

31 被检查层

32 内部的特定层

33 底层

50 脏污

70 定位边界

θ₁ 第一锐角

θ₂ 第二锐角

具体实施方式