[实用新型]气体匀流组件及片材表面处理装置有效
| 申请号: | 201720257218.4 | 申请日: | 2017-03-16 |
| 公开(公告)号: | CN206628499U | 公开(公告)日: | 2017-11-10 |
| 发明(设计)人: | 董国樑;邢建龙;张治国;赵科雄;赵许飞;平洛;徐震;何双奇 | 申请(专利权)人: | 隆基绿能科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 西安弘理专利事务所61214 | 代理人: | 钟欢 |
| 地址: | 710100 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 气体 组件 表面 处理 装置 | ||
1.气体匀流组件,包括气体控制阀门和连接所述气体控制阀门的气管,其特征在于,还包括相互连通的第一匀流件和第二匀流件,所述第一匀流件通过所述气体控制阀门连通所述气管,所述第一匀流件具有多个分气通路,所述第二匀流件上开设多个气孔(12),所述多个气孔(12)与所述多个分气通路相通。
2.根据权利要求1所述的气体匀流组件,其特征在于,所述第一匀流件的侧壁向外凸出形成多个分气通路,所述第一匀流件的内部中空形成与所述多个分气通路相通的分气腔,所述多个分气通路与所述气管相对设置,所述多个分气通路依次经所述分气腔、气体控制阀门后连通所述气管。
3.根据权利要求2所述的气体匀流组件,其特征在于,所述第二匀流件连通所述多个分气通路的表面向内凹陷形成中空的分流腔,所述分流腔连通于所述多个分气通路和多个气孔(12)之间,且所述多个气孔(12)和多个分气通路相对设置。
4.根据权利要求3所述的气体匀流组件,其特征在于,所述多个气孔(12)均匀排布在与所述分流腔相对的第二匀流件上。
5.如权利要求2所述的气体匀流组件,其特征在于,所述多个分气通路均匀分布在所述第一匀流件的侧壁上。
6.片材表面处理装置,其利用气流对片材进行表面处理,所述片材表面处理装置包括箱体(1),其特征在于,还包括至少一个如权利要求1-5任一项所述的气体匀流组件,所述气体匀流组件设置于所述箱体(1)内。
7.如权利要求6所述的片材表面处理装置,其特征在于,所述气体匀流组件安装于所述箱体(1)内的侧壁上,所述气体匀流组件的气管穿过所述箱体(1)的侧壁连接供气或抽气装置,所述箱体(1)内部空间形成片材表面处理区域。
8.如权利要求7所述的片材表面处理装置,其特征在于,所述箱体(1)内对称设置两个所述气体匀流组件:一个所述气体匀流组件安装于所述箱体(1)内部上壁,其连接的气管为进气管(2),所述进气管连接供气装置;另一个所述气体匀流组件安装于所述箱体(1)内部底部,其连接的气管为出气管(3),所述出气管连接抽气装置(5)。
9.如权利要求8所述的片材表面处理装置,其特征在于,两个所述气体匀流组件之间的箱体内部空间形成片材表面钝化处理的区域,安装于所述箱体(1)内部底部的气体匀流组件的第二匀流件上安装用于放置花篮(13)的定位承载机构(14)。
10.如权利要求6所述的片材表面处理装置,其特征在于,还包括架体(15),所述箱体(1)放置于所述架体(15)上,所述架体(15)底部安装有移动轮(16)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





