[实用新型]具有薄膜图案的基板有效
| 申请号： | 201720250611.0 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN206627757U | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 许铭案 | 申请（专利权）人： | 许铭案 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司11228 | 代理人： | 毛广杰 |
| 地址： | 中国台湾苗栗*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 薄膜 图案 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有薄膜图案的基板，其特征在于，包含：
一基板；
至少一薄膜图案层，配置于该基板上；及
一周边图案层，配置于该基板上，无缝地环绕于该薄膜图案层。
2.根据权利要求1所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，该基板为一平面基板或一立体基板。
3.根据权利要求1所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，其中该基板为一立体基板，且该薄膜图案层配置于该立体基板的立体部位。
4.根据权利要求1所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，其中该至少一薄膜图案层选自以下任意两种以上的组合：一金属薄膜层、一无机金属氧化物薄膜层、一非金属氧化物薄膜层以及一非金属薄膜层。
5.根据权利要求1所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，其中该周边图案层为一基底光阻层，或为一金属薄膜层、一无机金属氧化物薄膜层、一非金属氧化物薄膜层或一非金属薄膜层。
6.根据权利要求1所述的具有薄膜图案的基板，其特征在于，还包括一保护层，形成于该薄膜图案层与该周边图案层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于许铭案，未经许铭案许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720250611.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种720度镜头对称模块化全景运动相机
- 下一篇：打印硒鼓用压铆出粉刀
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
