[实用新型]一种用于发光二极管生产的外延片清洗装置

权利要求书

1.一种用于发光二极管生产的外延片清洗装置，包括装置本体（1）和传动装置（2），所述传动装置（2）包括电机、主动轮、从动轮、履带和支架，其特征在于：所述装置本体（1）的中部贯穿有传动装置（2），所述传动装置（2）的履带表面设有若干防水吸盘（21），所述传动装置（2）的上方设有喷头（31），所述喷头（31）设置于装置本体（1）内腔的上方，所述喷头（31）与液体管道（3）的出水端联通，所述液体管道（3）的入水端设于装置本体（1）内腔的底部，所述液体管道（3）从下向上依次设有增压泵（4）、逆止阀（5）和压力贮水罐（6），所述装置本体（1）内壁下方设有滤网（11），所述传动装置（2）通过支架与底座（22）的连接固定。

2.根据权利要求1所述的一种用于发光二极管生产的外延片清洗装置，其特征在于：所述压力贮水罐（6）中部的高度与喷头（31）的高度相同。

3.根据权利要求1所述的一种用于发光二极管生产的外延片清洗装置，其特征在于：所述防水吸盘（21）的数量为六个，所述底座（22）的数量为四个。

4.根据权利要求1所述的一种用于发光二极管生产的外延片清洗装置，其特征在于：所述装置本体（1）的两侧均设有开口，且开口的高度略大于传动装置（2）的高度再加上两个防水吸盘（21）的高度。

5.根据权利要求1所述的一种用于发光二极管生产的外延片清洗装置，其特征在于：所述液体管道（3）与装置本体（1）的连接处设置有密封垫片。

6.根据权利要求1所述的一种用于发光二极管生产的外延片清洗装置，其特征在于：所述装置本体（1）的底部与底座（22）的底部位于同一水平面。