[实用新型]一种用于回转炉旋转控制的精确定位系统有效
| 申请号: | 201720216099.8 | 申请日: | 2017-03-07 |
| 公开(公告)号: | CN207006833U | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
| 发明(设计)人: | 杨希放 | 申请(专利权)人: | 正英日坩工业燃烧设备(上海)有限公司 |
| 主分类号: | F27B7/20 | 分类号: | F27B7/20 |
| 代理公司: | 上海世贸专利代理有限责任公司31128 | 代理人: | 叶克英 |
| 地址: | 201499 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 回转 旋转 控制 精确 定位 系统 | ||
1.一种用于回转炉旋转控制的精确定位系统,其特征在于,包含有,
回转炉炉体,其内沿其圆周方向界定出炉内分区;以及,
激光式停止定位开关,其具有激光发射接收器及激光反射板,所述激光发射接收器处于所述回转炉炉体的邻侧,所述激光发射接收器与所述回转炉炉体间存在有一间隔距离,所述间隔距离需大于所述回转炉炉体的最大热态膨胀量,而所述激光发射板设置于所述回转炉炉体上,所述激光发射接收器与所述激光反射板相配合以此检测所述回转炉炉体的转动角度。
2.根据权利要求1所述的一种用于回转炉旋转控制的精确定位系统,其特征在于,所述激光反射板沿圆周方向均匀地分布于所述回转炉体上。
3.根据权利要求2所述的一种用于回转炉旋转控制的精确定位系统,其特征在于,所述激光反射板设置有可调节活动底座。
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