[实用新型]一种紫外雪崩光电二极管探测器有效
申请号: | 201720210177.3 | 申请日: | 2017-03-06 |
公开(公告)号: | CN206574724U | 公开(公告)日: | 2017-10-20 |
发明(设计)人: | 袁俊;倪炜江;张敬伟;李明山;牛喜平;季莎;徐妙玲 | 申请(专利权)人: | 北京世纪金光半导体有限公司 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0312;H01L31/0352;H01L31/107;G01J1/42 |
代理公司: | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司11003 | 代理人: | 张宇锋 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 紫外 雪崩 光电二极管 探测器 | ||
1.一种紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述探测器的每个器件单元从上至下依次包括CE电极、SiO2层、P-well或N-well、衬底和背面电极;其中,所述P-well或N-well的上部中心设置有点状雪崩二极管,所述点状雪崩二极管与所述CE电极电连通;所述SiO2层的外围周向设置有接地GND。
2.根据权利要求1所述的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述CE电极的面积小于所述SiO2层的面积,所述接地GND设置在所述CE电极周向外侧的SiO2层上。
3.根据权利要求1所述的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述探测器由N型或P型碳化硅单晶片制成。
4.根据权利要求3所述的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述碳化硅单晶片的厚度为100微米-0.5毫米。
5.根据权利要求1所述的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述P-well或N-well由离子注入或外延工艺制成,深度为0.1微米-5微米。
6.根据权利要求1所述的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述CE电极由金属电极或透明导电膜制成。
7.根据权利要求6所述的紫外雪崩光电二极管探测器,其特征在于,所述透明导电膜为氧化铟锡膜,其厚度为10纳米-10微米。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的