[实用新型]多功能真空离子镀膜机

权利要求书

1.一种多功能真空离子镀膜机，其特征在于，其包括真空室、电解传感器、导电工件转架、脉冲偏压电源、等离子电弧蒸发源、电弧电源、中频溅射源、溅射靶、溅射法兰、第一中频磁控溅射接口、第二中频磁控溅射接口、中频磁控溅射源、中频电源、气体离子源、灭弧检测器、零电位环，真空室固定在零电位环内，真空室上端固定有电解传感器，真空室下端固定有灭弧检测器，真空室表面固定有第一中频磁控溅射接口、第二中频磁控溅射接口、导电工件转架，中频磁控溅射源一端与第一中频磁控溅射接口相连，中频磁控溅射源另一端与第二中频磁控溅射接口相连，导电工件转架上固定有中频溅射源，等离子电弧蒸发源阳极与零电位环相连，等离子电弧蒸发源阴极与导电工件转架相连，电弧电源阳极与零电位环相连，电弧电源阴极连接至真空室，脉冲偏压电源阳极连接至真空室表面，脉冲偏压电源阴极与导电工件转架相连，溅射靶固定在真空室内部，溅射靶上固定有溅射法兰、八个中频电源、两个气体离子源。

2.如权利要求1所述的多功能真空离子镀膜机，其特征在于，所述第一中频磁控溅射接口为阳极中频磁控溅射接口，第二中频磁控溅射接口为阴极中频磁控溅射接口，从中频磁控溅射源溅射的中频溅射的正离子从第一中频磁控溅射接口进入真空室，真空室内的负离子从第二中频磁控溅射接口回到中频磁控溅射源中。

3.如权利要求1所述的多功能真空离子镀膜机，其特征在于，所述溅射法兰旋接在溅射靶上，通过转动溅射法兰调节溅射靶的溅射角度。

4.如权利要求1所述的多功能真空离子镀膜机，其特征在于，所述真空室上下两端分别设有一个连接筋，连接筋为导体材料制成。

5.如权利要求1所述的多功能真空离子镀膜机，其特征在于，所述八个中频电源依次排布在溅射靶表面且相邻两个中频电源的间距相等。