[实用新型]氯化钙溶液连续生产装置

权利要求书

1.氯化钙溶液连续生产装置，其特征在于：包括反应箱（10）、氢氧化钙容纳箱（20）、氢氧化钙排出管（21）、第一电控阀（22）、螺旋输送机（23）、限位柱（24）、接近传感器（25）、定位板（26）、盐酸溶液容纳箱（30）、盐酸溶液供应管（31）、盐酸溶液排出管（32）、第二电控阀（33）、液位传感器（34）、第三电控阀（35）和控制器（40）；

所述氢氧化钙排出管（21）竖直地设置在所述氢氧化钙容纳箱（20）的底部；所述第一电控阀（22）设置在所述氢氧化钙排出管（21）上；所述氢氧化钙排出管（21）从上至下延伸至所述反应箱（10）内；所述螺旋输送机（23）从上至下竖直地延伸至所述氢氧化钙容纳箱（20）内；所述定位板（26）水平地设置于所述氢氧化钙容纳箱（20）内；所述定位板（26）的外周面与所述氢氧化钙容纳箱（20）的内周面可滑动地接触；所述螺旋输送机（23）可滑动地贯穿所述定位板（26）；所述限位柱（24）设置在所述氢氧化钙容纳箱（20）的底部内表面，且位于所述定位板（26）下方；所述接近传感器（25）设置在所述氢氧化钙容纳箱（20）中，且位于所述定位板（26）上方；

所述盐酸溶液供应管（31）与所述盐酸溶液容纳箱（30）的顶部连通；所述盐酸溶液排出管（32）与所述盐酸溶液容纳箱（30）的底部连通；所述第二电控阀（33）设置在所述盐酸溶液排出管（32）上；所述第三电控阀（35）设置在所述盐酸溶液供应管（31）上；所述盐酸溶液排出管（32）从上至下延伸至所述反应箱（10）内；所述液位传感器（34）设置于所述盐酸溶液容纳箱（30）中；

所述接近传感器（25）和所述液位传感器（34）均与所述控制器（40）电连接；所述控制器（40）分别与所述第一电控阀（22）、所述第二电控阀（33）、所述第三电控阀（35）和所述螺旋输送机（23）的驱动装置电连接；

所述反应箱（10）的周壁上设置有溢流口（11）。

2.根据权利要求1所述的氯化钙溶液连续生产装置，其特征在于：所述氢氧化钙容纳箱（20）的内周面上还设置有挡块（27）；所述挡块（27）位于所述定位板（26）上方，且位于所述接近传感器（25）下方。

3.根据权利要求1所述的氯化钙溶液连续生产装置，其特征在于：所述氢氧化钙容纳箱（20）的底部设置有正对所述螺旋输送机（23）下端出口处的锥形凸起（28）。

4.根据权利要求1所述的氯化钙溶液连续生产装置，其特征在于：所述反应箱（10）的底部设置有排污口（12）。

5.根据权利要求1所述的氯化钙溶液连续生产装置，其特征在于：所述反应箱（10）的外周面缠绕有冷却水管（50）。