[实用新型]一种快恢复二极管有效

专利信息
申请号: 201720146713.8 申请日: 2017-02-17
公开(公告)号: CN206558511U 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 余杰 申请(专利权)人: 余杰
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)11363 代理人: 逯长明,许伟群
地址: 415100 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 恢复 二极管
【说明书】:

技术领域

本申请涉及二极管领域,尤其涉及一种快恢复二极管。

背景技术

快恢复二极管是一种具有开关特性好、反向恢复时间短的半导体二极管,可以作为输出整流二极管、吸收二极管等单独使用,也可以作为续流二极管与绝缘栅双极型晶体管配套使用。快恢复二极管的反向恢复时间即电流通过零点由正向转换成反向、再由反向转换到规定低值的时间间隔,一般在几百纳秒以下,反向恢复时间是衡量高频续流及整流器件性能的重要技术指标。

快恢复二极管在生产过程中需要焊接封装,封装方式包括塑料封装、金属壳封装以及导线焊接封装等。其中,导线焊接封装方式中,需要使用导线连接芯片和引脚,将导线的两端分别与芯片和引脚焊接。

但是,当需要封装大功率的快恢复二极管时,由于导线与芯片的接触面积小,需要在芯片上连接多条导线,并多次焊接导线和芯片,导致导通电阻大、发热大以及热传导慢的问题。

实用新型内容

本申请提供了快恢复二极管,以解决当需要封装大功率的快恢复二极管时,由于导线与芯片的接触面积小,需要在芯片上连接多条导线,并多次焊接导线和芯片,导致导通电阻大、发热大以及热传导慢的问题。

第一方面,本申请提供了一种快恢复二极管,包括:框架本体、设置在所述框架本体上的至少一个芯片、带状导体和引脚,其中:

所述带状导体与所述芯片和引脚对应设置,所述带状导体的两端的焊接面分别与所述芯片和所述引脚焊接,且所述焊接面设置在所述带状导体两端与所述芯片和引脚接触面积较大的侧面。

优选地,所述带状导体设置为长方体结构。

优选地,所述带状导体的中间设置为圆柱形结构、两端设置为长方体结构。

优选地,所述带状导体设置为铜或铝结构。

优选地,所述框架本体包括依次设置的碳化硅衬底、介电材料层和耐火金属层。

优选地,所述框架本体的表面还设置保护膜。

本申请提供的快恢复二极管,利用焊接面积较大的带状导体替代导线导通芯片和引脚,减少大功率快恢复二极管中使用导线导通芯片和引脚时的焊接次数,降低导通电阻和发热,加快热传导。

附图说明

为了更清楚地说明本申请的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请提供的一种快恢复二极管结构示意图;

图2为本申请的一种带状导体结构示意图;

图中符号表示:

1-框架本体,2-芯片,3-带状导体,4-引脚。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本实用新型相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本实用新型的一些方面相一致的装置和方法的例子。

参见图1,为本申请提供的一种快恢复二极管结构示意图。

如图1所示,快恢复二极管包括框架本体1、芯片2、带状导体3和引脚4,其中,框架本体1包括外壳和带有腔体的底板,在腔体内设置芯片2,本申请提供的快恢复二极管包括两个引脚4,因此,在腔体内设置两个芯片2。

带状导体3设置为长方体结构,带状导体3的两端设置焊接面,焊接面设置在带状导体3两端的侧面上,并且设置在带状导体3面积较大的侧面,从而增大焊接面的面积。带状导体3两端的焊接面分别与芯片2和引脚4焊接。带状导体3与两个芯片2焊接的位置对应,距离芯片2的中心位置相同。

框架本体1包括碳化硅衬底,在碳化硅衬底上设置介电材料层和耐火金属层,另外,为了保护快恢复二极管,并且提高防水和耐火性能,在框架本体1的表面设置保护膜。

参见图2,为本申请提供的一种带状导体3结构示意图。

如图2所示,带状导体3的中间设置为圆柱形结构,两端设置为长方体结构,两端的长方体结构上设置焊接面,方便与芯片2和引脚4的焊接,增大焊接面积,并减少多个导线的焊接次数。中间的圆柱形结构减少发热。带状导体3设置为铜或铝结构,或者合金材料制成的带状结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于余杰,未经余杰许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720146713.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top