[实用新型]一种晶体加工用水循环装置有效
申请号: | 201720141299.1 | 申请日: | 2017-02-16 |
公开(公告)号: | CN206599451U | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | 甘大元;陈文杰;唐珊珊;刘坤;丁小玉 | 申请(专利权)人: | 山东大海新能源发展有限公司 |
主分类号: | C02F1/00 | 分类号: | C02F1/00;B28D7/00 |
代理公司: | 济南千慧专利事务所(普通合伙企业)37232 | 代理人: | 苏金锋 |
地址: | 257300 山东省东营*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶体 工用 水循环 装置 | ||
1.一种晶体加工用水循环装置,其特征在于:包括一硅片脱胶池,在硅片脱胶池的左侧下部设有一通过管道与硅片擦洗池左侧下部相连通的脱胶排水口,在硅片脱胶池与硅片擦洗池之间的管道上依次设有一第一过滤器、第一泵体,在硅片擦洗池的右侧底部设有通过管道与硅片清洗池上部相连通的擦片排水口,所述硅片清洗池的空腔自左向右依次由隔板分割为互不连通的前清洗池、中部清洗池与后清洗池,前清洗池通过管道与污水池上部相连通设置,中部清洗池通过管道与硅片脱胶池相连通设置,在中部清洗池与硅片脱胶池相连通设置的管道上依次设有一第二过滤器、第二泵体,后清洗池通过回流管与第二过滤器、第二泵体之间的管道相连通,在第二过滤器的过滤网的右侧设有一通过管道与污水池相连通设置的排渣管,硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池分别通过供水管与一供水池相连通设置,在供水池的一侧设有一与水源连通的供水泵,在各供水管上分别设有一阀门,在硅片擦洗池与硅片擦洗池相连通的管道上依次设有一第三过滤器、第三泵体;第一泵体、第二泵体、第三泵体、供水泵分别通过导线与外部电源相连通设置。
2.根据权利要求1所述的一种晶体加工用水循环装置,其特征在于:所述硅片脱胶池的空腔底部向中心倾斜设置,在硅片脱胶池的空腔底部的通孔内活动密封配合连接一旋转轴,在硅片脱胶池的空腔内的旋转轴顶部固连一底部刷毛与空腔底部相抵接的毛刷,在硅片脱胶池外部的旋转轴外侧壁上固连一曲柄,在与毛刷相对一侧的硅片脱胶池的空腔底部设有一与空腔连通的排污管,在排污管的底部开口处密封插装一密封塞。
3.根据权利要求1或2所述的一种晶体加工用水循环装置,其特征在于:在与排渣管相对的第二过滤器的前侧壁上通过管道连接一排渣泵体。
4.根据权利要求3所述的一种晶体加工用水循环装置,其特征在于:在硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池的空腔侧壁上分别自上而下设有一上限水位标、下限水位标。
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