[实用新型]一种光掩模装片匣的支架

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种半导体机械治具，特别是涉及一种光掩模装片匣的支架。

背景技术

设计与工艺制造之间的接口是版图。版图是一组相互套合的图形，各层版图相应于不同的工艺步骤，每一层版图用不同的图案来表示。版图与所采用的制备工艺紧密相关。在计算机及其超大规模集成电路(Very Large Scale INTEGRATED Circuits，VLSI)设计系统上设计完成的集成电路版图只是一些图像和数据，当将设计结果送到工艺线上实验时，还必须经过一个重要的中间环节，即制版。

制版是通过图形发生器完成图形的缩小和重复。在设计完成集成电路的版图以后，设计者得到的是一组标准的制版数据，将这组数据传送给图形发生器(一种制版设备)，图形发生器(Pattern Generator，PG)根据数据，将设计的版图结果分层转移到光掩模上。制版的目的就是产生一套分层的版图掩模，为将来进行图形转移(即光刻)做准备。光掩模(Photo Mask)包含了整个硅片的芯片图形特征，其质量的高低直接影响着半导体产品的最终性能，因此，在生产过程中，必须保证光刻光掩模的质量。

在广泛使用的光掩模激光曝光机上，在光掩模片匣上60装卸掩模板70的一般操作方式通常由两种：

第一种方式如图1所示，光掩模片匣上60水平放置，掩模板70水平插入到所述光掩模片匣上60中，这种方式会使掩模板70的胶面会不可避免碰到片匣的槽口造成胶面划伤。

第二种方式如图2所示，光掩模片匣上60垂直放置，掩模板70垂直插入到所述光掩模片匣上60中，这种方式在操作时，手臂或衣服上的灰尘会抖落到掩模板70上，从而导致掩模板70收到污染造成缺陷。

随着产品等级的提高，光掩模基板的价格也越来越昂贵，在曝光环节的任何瑕疵或是造成缺陷的可能都是不可接受的。

基于以上所述，提供一种能够改善光掩模在曝光环节的划伤或落灰概率的装置实属必要。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种光掩模装片匣的支架，用于解决现有技术中光掩模在曝光环节的划伤或落灰的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种光掩模装片匣的支架，所述支架包括：第一板材及第二板材，所述第一板材及第二板材呈60～120°夹角设置，所述第一板材与水平面的夹角为15～45°，所述第二板材与水平面的夹角为45～75°。

作为本实用新型的光掩模装片匣的支架的一种优选方案，所述第一板材与第二板材呈80～100°夹角设置。

优选地，所述第一板材与第二板材呈90°夹角设置。

作为本实用新型的光掩模装片匣的支架的一种优选方案，所述第一板材与水平面的夹角为25～35°，所述第二板材与水平面的夹角为55～65°。

优选地，所述第一板材与水平面的夹角为30°，所述第二板材与水平面的夹角为60°。

作为本实用新型的光掩模装片匣的支架的一种优选方案，还包括固定设置于所述第一板材及第二板材两侧的第一支撑板及第二支撑板，以固定所述第一板材及第二板材。

作为本实用新型的光掩模装片匣的支架的一种优选方案，所述第一支撑板及第二支撑板上均具有沿所述第一板材及第二板材的对应设置的缺口，使得所述第一支撑板及第二支撑板在垂直方向上均不超出所述第一板材及第二板材。

优选地，所述第一支撑板及第二支撑板与所述第一板材及第二板通过螺孔及螺丝固定连接。

进一步地，还包括一底板，固定连接于所述第一支撑板及第二支撑板的底部。

作为本实用新型的光掩模装片匣的支架的一种优选方案，所述第一板材及第二板材为特氟隆板材。

如上所述，本实用新型的光掩模装片匣的支架，具有以下有益效果：

本实用新型通过设计一个可以使光掩模装片匣倾斜放置的支架，通过倾斜的方式插入光掩模时，不容易造成光掩模胶面的划伤，并且可以避免手上或者衣袖上的灰尘落入光掩模表面的问题，大大提高了光掩模的质量。本实用新型的支架的采用特氟隆材料制成，可以达到不易变形不易产生碎屑及抗氧化的要求。本实用新型结构简单，可以提高光掩模在曝光环节的质量，在半导体机械治具领域具有广泛的应用前景。

附图说明

图1显示为现有技术中的第一种在光掩模装片匣上装卸掩模板的操作方式示意图。

图2显示为现有技术中的第二种在光掩模装片匣上装卸掩模板的操作方式示意图。

图3显示为本实用新型的光掩模装片匣的支架的整体结构示意图。