[实用新型]一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置

说明书

技术领域

本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置。

背景技术

纳米镀膜作为提升材料表面性能有效方法被广泛应用于航空航天、汽车制造、机械重工和五金工具制造等领域。在纳米镀膜时，需要将反应腔室抽真空，然后向反应腔室内通入化学原料。化学原料以液体形式加入与反应腔室连通的汽化装置中，通过汽化装置把化学原料汽化，由于反应腔室持续抽真空，汽化的化学原料扩散进入反应腔室。

现有纳米镀膜设备的汽化装置通常只有单个汽化腔室，该汽化腔室直接与反应腔室连通。实际使用过程中，单个汽化腔室的汽化效率较低，经常出现化学原料汽化不充分，汽化腔室内残留的液态化学原料或者未充分汽化的化学原料被吸入反应釜，而导致镀膜厚度不均匀甚至镀膜失效等问题。而且，由于汽化腔室直接与反应腔室连通，反应腔室内的等离子体引发汽化腔室内残留的化学原料反应，形成固态的聚合物，最后由于聚合物不断累积，造成汽化腔室和反应腔室连接管路的堵塞，从而影响到产品镀膜的质量。

实用新型内容

为了解决现有技术存在的上述问题，本实用新型提供一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，结构简单，操作方便。化学原料经化学原料泵入导管加入到汽化装置第一基体管路，在汽化装置第一基体管路和一级汽化腔室加热形成的化学原料蒸汽通过汽化腔室连接管路进入二级汽化腔室，化学原料蒸汽在二级汽化腔室进一步充分汽化，再进入汽化装置第二基体管路，最后经过导热管和等离子体挡板均匀扩散到反应腔室内。

本实用新型所采用的技术方案如下：

一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是：该装置包括汽化装置基体，汽化装置基体上方连接安装有化学原料泵入导管，所述化学原料泵入导管底部与第一基本管路连通；所述第一基本管路前端封闭，后端与一级汽化腔室连通；所述一级汽化腔室经汽化腔室连接管路与二级汽化腔室连通，所述一级汽化腔室与二级汽化腔室分别位于汽化装置基体两侧，所述二级汽化腔室经第二基本管路与导热管前端连通，所述导热管后端连接有等离子体挡板，所述导热管上安装有气体出口，所述第一基本管路与所述汽化腔室连接管路下方安装有电热管，所述汽化装置基体底部安装有温控热电偶。

所述汽化装置基体材质为铝、铜或不锈钢。

所述电热管功率为10W-1000W；所述温控热电偶的测温范围为0～250℃。

所述一级汽化腔室容积为0.01L-0.5L，材质为铝、铜或不锈钢。

所述二级汽化腔室容积为0.01L-0.5L，材质为铝、铜或不锈钢。

所述导热管内径为3mm-50mm。

所述等离子体挡板垂直于导热管设置。

所述等离子体挡板为平面或曲面形状，其厚度为1mm-5mm，材质为铝、铜或不锈钢。

所述等离子体挡板为圆盘形或至少四边的柱形，厚度为1mm-5mm，材质为铝、铜或不锈钢。

所述等离子体挡板为圆盘形时，其直径为20mm-200mm。

综上，本实用新型可提供一种结构简单、使用方便的纳米镀膜设备化学原料汽化装置，与现有技术相比具有以下优点：

(1)采用多级汽化的方式，化学原料经过一级汽化腔室汽化后进入二级汽化腔室，逐级汽化更充分，保证进料的速度和数量可以精确控制。

(2)汽化装置出口安装等离子体挡板，等离子体挡板右侧有等离子体存在，左侧基本没有等离子体存在，原料蒸汽从挡板左侧的导热管的气体出口扩散到挡板右侧后进行等离子体聚合反应；等离子体挡板可阻止等离子体进入汽化装置引发反应生成聚合物，引起腔体及管路堵塞。

(3)汽化装置基体安装导热管和温控热电偶，维持化学原料蒸汽和等离子挡板的温度，避免化学原料蒸汽冷凝。

附图说明

图1为本实用新型装置的截面结构示意图，图2为图1中A-A剖面图。

图中，1、汽化装置基体，2、电热管，3、化学原料泵入导管，4、一级汽化腔室，5、二级汽化腔室，6、导热管，7、等离子体挡板，8、汽化腔室连接管路，9、第一基本管路，10、第二基本管路，11、气体出口，12、温控热电偶。

具体实施方式

下面结合具体实施例及附图详细说明本实用新型，但本实用新型并不局限于具体实施例。

实施例1：