[实用新型]一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置

权利要求书

1.一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是：该装置包括汽化装置基体(1)，汽化装置基体上方连接安装有化学原料泵入导管(3)，所述化学原料泵入导管底部与第一基本管路(9)连通；所述第一基本管路前端封闭，后端与一级汽化腔室(4)连通；所述一级汽化腔室经汽化腔室连接管路(8)与二级汽化腔室(5)连通，所述一级汽化腔室(4)与二级汽化腔室(5)分别位于汽化装置基体(1)两侧，所述二级汽化腔室经第二基本管路(10)与导热管(6)前端连通，所述导热管后端连接有等离子体挡板(7)，所述导热管上安装有气体出口(11)，所述第一基本管路(9)与所述汽化腔室连接管路(8)下方安装有电热管(2)，所述汽化装置基体底部安装有温控热电偶(12)。

2.根据权利要求1所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述汽化装置基体材质为铝、铜或不锈钢。

3.根据权利要求1所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述电热管功率为10W-1000W。

4.根据权利要求1所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述一级汽化腔室容积为0.01L-0.5L，材质为铝、铜或不锈钢。

5.根据权利要求1所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述二级汽化腔室容积为0.01L-0.5L，材质为铝、铜或不锈钢。

6.根据权利要求1所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述导热管内径为3mm-50mm。

7.根据权利要求1所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述等离子体挡板垂直于导热管设置。

8.根据权利要求1或7所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述等离子体挡板为平面或曲面形状，其厚度为1mm-5mm，材质为铝、铜或不锈钢。

9.根据权利要求1或7所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述等离子体挡板为圆盘形或至少四边的柱形，厚度为1mm-5mm，材质为铝、铜或不锈钢。

10.根据权利要求9所述的一种纳米镀膜设备化学原料汽化装置，其特征是，所述等离子体挡板为圆盘形时，其直径为20mm-200mm。