[实用新型]溅镀旋转靶磁棒总成

说明书

技术领域

本实用新型涉及溅镀旋转靶磁棒总成。

背景技术

现有的圆柱型溅镀靶所使用的磁棒在磁座的排列上过于紧密,在使用上因磁力线的原因导致两端磁场较强,在靶材的两端产生消耗较多,总体上的消耗不均匀以致利用率下降下降10％～15％,故需重新设定磁场。

因此，需要寻求一种新的技术方案来解决上述问题。

发明内容

本实用新型的目的是：提供一种使磁座上的磁场均匀的溅镀旋转靶磁棒总成。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

溅镀旋转靶磁棒总成，包括磁座本体以及强磁，强磁粘附于磁座本体外，强磁由S极强磁和N极强磁间隔设置，相邻的S极强磁和N极强磁之间间隔一定距离。

相邻S极强磁和N极强磁之间间隔距离为20-25mm。

优选的相邻S极强磁和N极强磁之间间隔距离为22mm

粘附强磁的磁座本体安装于腔体内。

腔体连接电源的正极，所述磁座本体连接电源的负极。

相邻S极强磁和N极强磁之间还设有垫片。

在上述技术方案中，跟现有技术相比所达到的技术效果是：通过实际的上机测试，将S极强磁和N极强磁之间距离调整至22mm时，提高耗材利用率至70％，页减少了更换耗材的次数，而垫片的设置，可增加强磁的工作点，从而增大了强磁的磁场强度。

附图说明

附图1为本实用新型实施例一的总视图。

附图2为本实用新型实施例一的磁座本体的结构图。

附图3为本实用新型实施例一的磁座本体的剖视图。

以上附图中：1-磁座本体、2-强磁、21-S极强磁、22-N极强磁、3-腔体、4-垫片。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述。

实施例一：

如图1至图3所示，本实用新型的溅镀旋转靶磁棒总成，包括磁座本体1以及强磁2，强磁2粘附于磁座本体1外，强磁2由S极强磁21和N极强磁22间隔设置，相邻的S极强磁21和N极强磁22之间间隔一定距离。

相邻S极强磁21和N极强磁22之间间隔距离为20-25mm。

优选的相邻S极强磁21和N极强磁22之间间隔距离为22mm

粘附强磁2的磁座本体1安装于腔体3内。

腔体3连接电源的正极，磁座本体1连接电源的负极。

相邻S极强磁21和N极强磁22之间还设有垫片4。

在上述技术方案中，跟现有技术相比所达到的技术效果是：通过实际的上机测试，将S极强磁21和N极强磁22之间距离调整至22mm时，提高耗材利用率至70％，页减少了更换耗材的次数，而垫片4的设置，可增加强磁2的工作点，从而增大了强磁2的磁场强度。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。