[实用新型]扩散器及PECVD设备有效

专利信息
申请号: 201720043554.9 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN207002827U 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: N·南比亚尔;天田欣也 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C22C21/00 分类号: C22C21/00;C23C16/50
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 徐金国
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 扩散器 pecvd 设备
【权利要求书】:

1.一种用于处理基板的扩散器,包含:

主体,所述主体具有通过所述主体布置的多个通道,所述主体包含锌减少的6061铝合金。

2.一种用于等离子体增强化学气相沉积腔室中的扩散器,包含:

主体,所述主体具有通过所述主体布置的多个通道,所述主体包含锌减少的6061铝合金,其中所述扩散器适于在具有高于400℃的温度的环境中的操作。

3.一种PECVD设备,包含:

用于处理基板的扩散器,所述扩散器包含:

主体,所述主体通过一或多个紧固机构和喷头悬挂件机构被耦接到背板,所述主体包含锌减少的6061铝合金。

4.如权利要求3所述的设备,其特征在于,气源被耦接到所述背板。

5.如权利要求3所述的设备,其特征在于,所述主体被布置在与基板支撑件相对的处理空间中。

6.如权利要求3所述的设备,其特征在于,所述主体被耦接到射频电源。

7.如权利要求3所述的设备,其特征在于,所述铝合金在大于约400℃的温度下大体上非易挥发。

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