[实用新型]一种硅片超声清洗机水循环系统有效

专利信息
申请号: 201720040088.9 申请日: 2017-01-13
公开(公告)号: CN206483773U 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 严徇成;张亚超;何迎辉 申请(专利权)人: 淮安金太阳电力有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12
代理公司: 淮安市科文知识产权事务所32223 代理人: 李杰
地址: 223300 江苏省淮*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 超声 清洗 水循环 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及硅片超声清洗机领域,具体涉及一种硅片超声清洗机水循环系统。

背景技术

硅片是太阳能电池板的重要部件,其制备过程是将硅棒粘接在晶托上,经线切、脱胶、插片、清洗、干燥后,随着插片盒一同放入硅片分选仪筛选出不良片;其中清洗过程是在硅片超声清洗机中进行的,硅片超声清洗机设置有十道顺序排列的清洗水槽,插入插片盒的硅片在传送机构上依次穿过多道清洗水槽,每个清洗水槽中不断注入清洁热水,废水通过溢流口排入溢流水槽集中排放,每天要消耗大量的热水;分析清洗过程,第1道清洗水槽排出的杂质最多,往后逐渐减少,到第5道清洗水槽排出的杂质已经较少,第6道清洗水槽排出的废水已经比较干净,第9、10道清洗水槽排出的废水中几乎没有杂质,但是仍然与前部几道清洗水槽的废水一同排放,是一种严重的资源浪费,而且增加了硅片的制作成本。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种硅片超声清洗机水循环系统,可以解决现有硅片超声清洗机将全部清洗水槽的废水集中排放,导致浪费资源,增加硅片制作成本的问题。

本实用新型通过以下技术方案实现:

一种硅片超声清洗机水循环系统,所述硅片超声清洗机设置有多道顺序排列的清洗水槽,多道所述清洗水槽分别通过溢流口连通有溢流水槽,所述溢流水槽包括至少两个相互隔离的腔室,位于后部的数道清洗水槽连通溢流水槽的同一腔室,该腔室通过设置有水泵的管道连通位于前部的清洗水槽。

本实用新型的进一步方案是,所述清洗水槽共有10道,第6~10道连通溢流水槽的同一腔室,该腔室通过管道连通第1~3道清洗水槽。

本实用新型的进一步方案是,所述管道还连通硅片插片机的水箱。

本实用新型与现有技术相比的优点在于:

一、将后部数道的清洗水槽排出的污水收集回供对清洁度要求较低的前部清洗水槽,有效降低用水量,节约资源,降低硅片的制作成本;

二、硅片插片机通过水流输送硅片,在气温较低时还需要对水加热,直接利用后部数道的清洗水槽排出的具有一定热量的污水,既节约用水还不需要再进行加热,进一步降低硅片的制作成本。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示的一种硅片超声清洗机水循环系统,所述硅片超声清洗机设置有10道顺序排列的清洗水槽1,10道所述清洗水槽1分别通过溢流口连通有溢流水槽2,所述溢流水槽2包括两个相互隔离的腔室,位于后部的第6~10道清洗水槽1连通溢流水槽2的同一腔室,该腔室通过设置有水泵5的管道3连通位于前部的第1~3道清洗水槽1,以及硅片插片机的水箱4。

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