[实用新型]一种双联节能LED半导体芯片有效
申请号: | 201720035451.8 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN206711915U | 公开(公告)日: | 2017-12-05 |
发明(设计)人: | 王赞;刘自通;阮宜武 | 申请(专利权)人: | 河南工业大学 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L27/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 450001 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 节能 led 半导体 芯片 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种双联节能LED半导体芯片,属于电致发光与热致发光领域。
背景技术
LED灯主要利用P型半导体与N型半导体结合成发光异质结,利用电子与空穴的复合释放光子的原理实现发光。与白炽灯相比,具有低功耗、高亮度、小尺寸、安装简易、可靠度高的特点。然而,在低电压、大功率的工况下,LED发光芯片的热流密度高达30W/cm2以上,使得散热问题成为亟待解决的瓶颈。尤其是对于大功率LED 平面集群封装模块,强制换热的降温方式会消耗大量电能,抬高使用成本。将热致发光与电致发光技术相结合既可以弥补LED的散热问题,又可以提高LED的发光功率。
发明内容
本实用新型设计一种双联节能LED半导体芯片,它由十部分组成,分别是直流电源、导线、正极铜电极、P-GaN薄膜、GaN薄膜、N-GaN 薄膜、N-GaN基板、HfO2薄膜、P-ZnO薄膜、负极铜电极。电子由负极铜电极导入,分别在右侧的发光层HfO2薄膜与左侧的发光层 GaN薄膜内与空穴复合并发射光子。根据热致发光原理,HfO2薄膜发射的光子能量大于电场做功,多出的这部分能量来源于左侧发光层 GaN薄膜释放的热量。本实用新型提出了采用电致发光与热致发光相结合的方法降低LED功耗及提高发光效率的方法,以促进LED技术向节能降耗方向的发展。
附图说明
通过参照附图更详细地描述本发明的示例性实施性,本实用新型的以上和其它方面及优点将变得更加易于清楚,在附图中:
图1是双联节能LED半导体芯片的主视图;
图2是双联节能LED半导体芯片的俯视图;
具体实施方式
在下文中,将参照附图更充分地描述本实用新型,在附图中示出了一种实施例。然而,本实用新型可以以许多不同的形式来实施,且不应该解释为局限于在此阐述的实施例。相反,提供该实施例使得本公开将是彻底和完全的,并将本实用新型的范围充分地传达给本领域技术人员。
在下文中,将参照附图更详细地描述本实用新型的示例性实施例。
参考附图1~2,本实用新型的技术方案的实现:一种双联节能LED 半导体芯片,它由十部分组成,分别是直流电源、导线、正极铜电极、 P-GaN薄膜、GaN薄膜、N-GaN薄膜、N-GaN基板、HfO2薄膜、P-ZnO 薄膜、负极铜电极。
直流电源:本发明电源为稳压直流电源(5~10V),电流通过正极铜电极导入LED半导体芯片,由负极铜电极回流入电源,驱动电子定向运动。
导线:可采用普通铜质或铝质导线(直径0.1~0.25mm)。
N-GaN基板:采用化学气相沉积工艺制备,在GaN晶体生长过程中掺杂Si元素,掺杂浓度控制在1016~1020/cm3。
N-GaN薄膜:采用化学气相沉积工艺制备,在GaN晶体生长过程中掺杂Si元素,掺杂浓度控制在1016~1020/cm3。
GaN薄膜:采用化学气相沉积工艺制备。
P-GaN薄膜:采用化学气相沉积工艺制备,在GaN晶体生长过程中掺杂Mg元素,掺杂浓度控制在1016~1020/cm3。
HfO2薄膜:采用化学气相沉积工艺制备,通过金属Hf靶材溅射与O2发生氧化反应沉积在N-GaN薄膜上面。
P-ZnO薄膜:采用化学气相沉积工艺制备,在ZnO晶体生长过程中掺杂Mg元素,掺杂浓度控制在1019~1020/cm3。
正极铜电极:采用物理气相沉积方法获得,电极厚度0.1mm~0.3mm。
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