[实用新型]带有抽真空系统的平板式PECVD进料腔有效
申请号: | 201720030341.2 | 申请日: | 2017-01-11 |
公开(公告)号: | CN206418198U | 公开(公告)日: | 2017-08-18 |
发明(设计)人: | 傅林坚;石刚;洪昀;吴威;高振波;王伟星;祝广辉 | 申请(专利权)人: | 浙江晶盛机电股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/455 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司33212 | 代理人: | 周世骏 |
地址: | 312300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 带有 真空 系统 平板 pecvd 进料 | ||
1.一种带有抽真空系统的平板式PECVD进料腔,该进料腔呈中空状;其特征在于,在进料腔的底部设有多条气道,各气道的一端在进料腔底部中央交汇互通形成中心出口;各气道的另一端则均匀分布在进料腔底部的四周,且仅在该端部设置连接进料腔的气道入口;所述中心出口通过真空管道连接至真空泵,在中心出口与真空管道相接处设过滤网。
2.根据权利要求1所述的平板式PECVD进料腔,其特征在于,所述气道是设在进料腔底部的凹陷的条形槽,各气道及中心出口的上部设盖板使进料腔的底部保持平面状态。
3.根据权利要求1所述的平板式PECVD进料腔,其特征在于,所述气道有四条且呈十字形布置,或者气道有八条且呈米字形布置。
4.根据权利要求1至3任意一项中所述的平板式PECVD进料腔,其特征在于,所述真空管道上设有角阀。
5.根据权利要求2所述的平板式PECVD进料腔,其特征在于,所述气道上部的盖板与中心出口上部的盖板是分离式的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶盛机电股份有限公司,未经浙江晶盛机电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720030341.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:饮料供应装置
- 下一篇:带自锁和限位功能的用于平板式PECVD设备的翻板阀
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的