[实用新型]一种发光二极管有效
| 申请号: | 201720023681.2 | 申请日: | 2017-01-10 |
| 公开(公告)号: | CN206471346U | 公开(公告)日: | 2017-09-05 |
| 发明(设计)人: | 蓝永凌;张家宏;林兓兓 | 申请(专利权)人: | 安徽三安光电有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 241000 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 发光二极管 | ||
1.一种发光二极管,至少包括:衬底,及依次沉积于所述衬底上的缓冲层、N型层、多量子阱层、电子阻挡层和P型层,所述多量子阱层包括若干个周期性交替层叠的势阱层和势垒层,其特征在于:最后一个周期的多量阱子层由InGaN势阱层以及位于所述InGaN势阱层之上的GaN/AlN势垒层组成,所述GaN/AlN势垒层包括GaN单层和AlN单层。
2.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于:在所述GaN/AlN势垒层中,所述AlN单层位于所述GaN单层上。
3.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于:所述GaN/AlN势垒层为未掺杂层或者N型掺杂层。
4.根据权利要求3所述的一种发光二极管,其特征在于:所述GaN单层为未掺杂层或者N型掺杂层,所述AlN单层为未掺杂层。
5.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于:所述电子阻挡层与所述多量子阱层之间设置有一低温氮化镓层。
6.根据权利要求5所述的一种发光二极管,其特征在于:所述低温氮化镓层为P型掺杂层。
7.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于:所述AlN单层的厚度≤50Å。
8.根据权利要求1所述的一种发光二极管,其特征在于:所述GaN单层的厚度≤100Å。
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