[实用新型]一种用于晶元生产中的废气处理装置有效

专利信息
申请号: 201720005916.5 申请日: 2017-01-04
公开(公告)号: CN206473973U 公开(公告)日: 2017-09-08
发明(设计)人: 陈波;唐淋;余朝晃;郑敏;樊建银 申请(专利权)人: 湖南新中合光电科技股份有限公司
主分类号: B01D53/00 分类号: B01D53/00;B01D53/18;F23G7/06
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)11435 代理人: 陈铭浩,冯晓欣
地址: 416500 湖南省湘西土家族苗族自治州*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 生产 中的 废气 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种用于晶元生产中的废气处理装置,其特征在于,包括加热腔(1)、冷却腔(2)、废水腔(3)、集气腔(4),所述加热腔(1)为中空腔体,内部侧壁上设置有电热管(11),顶部设置有与内部腔体连通的废气集合管(12),侧边上部设置有空气管(13);所述空气管(13)延伸至加热腔(1)内部与腔体内部的喷气管(15)相连;所述喷气管(15)上端延伸至加热腔(1)内壁顶部,且所述喷气管(15)表面设置有气孔(151);加热腔(1)下端设置有与冷却腔(2)上端相连的耐高温气管(102),耐高温气管(102)与冷却腔(2)内部连通;所述冷却腔(2)的内壁顶部设置有喷淋头(22),下方设置有废水腔(3),侧面设置有与集气腔(4)相连的冷气管(304);所述废水腔(3)通过水管(203)与喷淋头(22)相连。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶元生产中的废气处理装置,其特征在于,所述喷气管(15)下端以螺旋状向下延伸,所述气孔(151)均匀分布于螺旋表面。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于晶元生产中的废气处理装置,其特征在于,所述冷却腔(2)的内壁上部设置有倒八字型的中空隔板(21),所述隔板(21)下端表面上均匀设置有喷淋头(22)。

4.根据权利要求3所述的一种用于晶元生产中的废气处理装置,其特征在于,所述隔板(21)下方设置有与冷却腔(2)内侧壁相接的导板(23),所述导板(23)与隔板(21)平行;所述导板(23)的中间间隔处设置有可活动的活塞(24);所述活塞(24)通过下端的弹簧(25)与基板(26)连接。

5.根据权利要求4所述的一种用于晶元生产中的废气处理装置,其特征在于,所述活塞(24)的截面为三角形。

6.根据权利要求1所述的一种用于晶元生产中的废气处理装置,其特征在于,所述集气腔(4)的上部设置有气水分离器(41),所述冷气管(304)通过气水分离器(41)与集气腔(4)相连。

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