[发明专利]一种OLED功能层喷墨打印制备方法及其掩膜板

说明书

本发明提供了一种OLED功能层喷墨打印制备方法，包括以下步骤：提供掩膜板基体，对掩膜板基体进行疏水处理，形成疏水层；在具有疏水层的掩膜板基体表面沉积缓冲层，形成掩膜板；将掩膜板的缓冲层与TFT阵列基板对位贴合，使掩模板阵列通孔与TFT阵列基板上预注入OLED功能层墨水材料的区域相对应设置；在掩模板上的阵列通孔处使用喷墨打印工艺，注入OLED HIL功能层墨水材料，再将掩膜板和TFT阵列基板一同进行干燥，使OLED功能层墨水干燥，随后去除掩膜板，得到OLED功能层。利用表面具有疏水层和缓冲层的掩膜板来采用喷墨打印法制备OLED功能层，省略了像素bank的制备工艺，大大简化了生产工艺，降低了生产成本，提高生产效率和OLED的质量。

技术领域

本发明属于OLED面板制备技术领域，具体涉及一种OLED功能层喷墨打印制备方法及其掩膜板。

背景技术

OLED因其优异的性能，现成为新兴热门的平板显示装置。目前为实现OLED全彩化主要采用喷墨打印技术。在喷墨打印技术中，为了使打印出来的液态材料更好的成型，需要在像素电极周围制备像素bank，再在像素bank区内注入OLED功能层墨水材料。但由于制作像素bank的流程相当繁琐，而且像素bank对像素电极的质量带来很大的影响。因此，现在亟待寻找一种新的方法去制备像素电极。

发明内容

本发明的目的在于提供一种OLED功能层喷墨打印制备方法，利用表面具有疏水层和缓冲层的掩膜板来注入OLED功能层墨水材料，省略了像素bank的制备工艺，大大简化了生产工艺，降低了生产成本，提高生产效率和OLED的质量。

本发明第一方面提供了一种OLED功能层喷墨打印制备方法，包括以下步骤：

提供掩膜板基体，对所述掩膜板基体进行疏水处理，形成疏水层，所述掩膜板基体上开设有阵列通孔，所述阵列通孔用于喷墨打印工艺时注入OLED功能层墨水材料，所述阵列通孔与预注入OLED功能层墨水材料的区域相对应设置；

在具有疏水层的所述掩膜板基体表面沉积缓冲层，形成掩膜板，所述掩膜板包括掩膜板基体、疏水层和缓冲层，所述疏水层设置在所述掩膜板基体相对的两侧，所述缓冲层设置在所述掩膜板基体一侧或相对两侧的所述疏水层上；

将所述掩膜板的缓冲层与TFT阵列基板对位贴合，使所述阵列通孔与所述TFT阵列基板上所述预注入OLED功能层墨水材料的区域相对应设置；

在所述阵列通孔处采用喷墨打印工艺注入所述OLED功能层墨水材料，再将所述掩膜板和所述TFT阵列基板一同进行干燥，使所述OLED功能层墨水材料干燥，随后去除所述掩膜板，得到OLED功能层。

其中，所述疏水层的材质为聚四氟乙烯、有机硅树脂、氟硅树脂或长链聚合物。

其中，所述疏水层采用蒸镀法或磁控溅射法制备而成。

其中，所述疏水层的厚度为20-50nm，所述缓冲层的厚度为1-10μm。

其中，所述缓冲层的材质为氧化硅、氮化硅、碳氧化硅、氮氧化硅或碳氮氧化硅。

其中，所述缓冲层采用等离子增强化学气相沉积法或喷墨打印法制备而成。

其中，所述疏水层覆盖所述阵列通孔的内壁。

其中，所述阵列通孔与所述预注入OLED功能层墨水材料的区域的大小和数量相等，所述阵列通孔与所述预注入OLED功能层墨水材料的区域的位置相同。

本发明第二方面提供了一种OLED，包括OLED功能层，所述OLED功能层如本发明第一方面提供的制备方法制备而成。