[发明专利]曝光机的曝光量自动调节系统及方法

说明书

本发明公开了一种曝光机的曝光量自动调节系统，包括：获取单元，用于获取系统预设的预设线距；建模单元，用于建立预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距之间的函数模型；计算单元，用于将检测到的当前预设线距带入该函数模型，获得当前的测量线距；曝光量调节单元，用于根据当前的测量线距调节曝光机的曝光量。本发明还公开了一种曝光机的曝光量自动调节方法。本发明通过采用曝光前后基板图案的线距之间的关系确定出预设线距与测量的实际线距之间的对应关系，通过该对应关系结合实时采集的系统预设线距，确定其曝光后应有的测量线距，然后根据该测量线距调节曝光量，实现了曝光量的自动调节，使得曝光量始终能够实现预期的制程参数。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种曝光机的曝光量自动调节系统及方法。

背景技术

目前在液晶面板生产中，曝光机的曝光调节参数只要是通过人为的输入，在实际生产过程中，由于多种外界变量的干扰，彩膜厂的制程所得的光刻胶的Offline CD(离线尺寸，即与机台分离进行测量)会出现波动，这时就需要人为的去调节曝光机的曝光量，以期望能得到想要的制程参数。

为防止由于干扰所产生的波动过大，在实际的操作过程中，需要人为的去监控Inline CD机台的量测结果，以期望得到一个实际的波动趋势，以便及时有效的调节曝光机的曝光量，这样就需要消耗人力在数据监控上，稍有不慎还会出现监控不到位的情况，导致产品出现Offline CD波动过大的现象，对产品品质造成不良影响。

发明内容

鉴于现有技术存在的不足，本发明提供了一种曝光机的曝光量自动调节系统及方法，可以实现曝光机的曝光量的自动监控与自动调节，解放了劳动力，并保证了曝光精度。

为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：

一种曝光机的曝光量自动调节系统，包括：

获取单元，用于获取系统预设的基板图案的预设线距；

建模单元，用于根据多组所述预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据，建立所述测量线距与所述预设线距的函数模型；

计算单元，用于将所述获取单元检测到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距；

曝光量调节单元，用于根据所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量。

作为其中一种实施方式，曝光机的曝光量与所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距之间的关系满足：y＝kx+b，且k＜0，其中y为曝光机的曝光量，x为所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距。

作为其中一种实施方式，所述的曝光机的曝光量自动调节系统还包括判断单元，所述判断单元用于将所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距与预设线距范围进行对比，在所述测量线距超出所述预设线距范围时，曝光机暂停工作。

作为其中一种实施方式，所述的曝光机的曝光量自动调节系统还包括警示单元，所述警示单元用于在所述测量线距超出所述预设线距范围时，发出提醒信号。

作为其中一种实施方式，所述预设线距范围为所述预设线距上下偏移不超过10％。

本发明的另一目的在于提供一种曝光机的曝光量自动调节方法，包括：

根据多组所述预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据，建立测量线距与预设线距的函数模型；

获取系统预设的基板图案的预设线距；

将获取到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型，获得当前基板图案的对应的测量线距；

根据获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量。