[发明专利]曝光机的曝光量自动调节系统及方法有效

专利信息
申请号: 201711479352.X 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN107908082B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 丛晓东 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;阳志全
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 曝光 自动 调节 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种曝光机的曝光量自动调节系统,其特征在于,包括:

获取单元,用于获取系统预设的基板图案的预设线距;

建模单元,用于根据多组所述预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据,建立测量线距与预设线距的函数模型;

计算单元,用于将所述获取单元获取到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型,获得当前基板图案的对应的测量线距;

曝光量调节单元,用于根据所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量;曝光机的曝光量与所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距之间的关系满足:y=kx+b,且k<0,其中y为曝光机的曝光量,x为所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距;

判断单元,用于将所述计算单元获得的当前基板图案的所述测量线距与预设线距范围进行对比,在所述测量线距超出所述预设线距范围时,曝光机暂停工作,所述预设线距范围为所述预设线距上下偏移不超过10%。

2.根据权利要求1所述的曝光机的曝光量自动调节系统,其特征在于,还包括警示单元,所述警示单元用于在所述测量线距超出所述预设线距范围时,发出提醒信号。

3.一种曝光机的曝光量自动调节方法,其特征在于,包括:

根据多组预设线距和与之所对应的曝光后的测量线距数据,建立测量线距与预设线距的函数模型;

获取系统预设的基板图案的预设线距;

将获取到的当前基板图案的所述预设线距带入所述测量线距与预设线距的函数模型,获得当前基板图案的对应的测量线距;将获得的当前基板图案的所述测量线距与预设线距范围进行对比,在所述测量线距超出所述预设线距范围时,曝光机暂停工作,所述预设线距范围为所述预设线距上下偏移不超过10%;

根据获得的当前基板图案的所述测量线距调节曝光机的曝光量;

曝光机的曝光量与获得的当前基板图案的所述测量线距之间的关系满足:y=kx+b,且k<0,其中y为曝光机的曝光量,x为获得的当前基板图案的所述测量线距。

4.根据权利要求3所述的曝光机的曝光量自动调节方法,其特征在于,还包括:在所述测量线距超出所述预设线距范围时,发出提醒信号。

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