[发明专利]蒸发源和蒸镀设备在审
申请号: | 201711462654.6 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN107955936A | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | 涂爱国;李金川 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 郝传鑫,熊永强 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 蒸发 设备 | ||
1.一种蒸发源,其特征在于,包括腔体和喷嘴,所述腔体包括相对的顶部和底部,所述喷嘴设于所述腔体顶壁,所述喷嘴与导流管相连,所述腔体侧壁设有固定装置,所述导流管经所述腔体顶部折弯并由所述固定装置固定于所述腔体侧壁面。
2.如权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述固定装置包括第一固定板,所述固定板开设有自所述腔体顶部向下的通孔,所述导流管穿设于所述通孔中。
3.如权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述固定装置包括第二固定板,所述第二固定板背向所述腔体侧壁的侧边开设有自所述腔体顶部向下的凹槽,所述导流管靠设于所述凹槽中。
4.如权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述固定装置包括挡块,所述挡块至少包括两个,相邻两个所述挡块之间形成自所述腔体顶部向下的空隙,所述导流管容置于所述空隙中。
5.如权利要求2至4任一所述的蒸发源,其特征在于,所述固定装置在所述腔体侧壁面设置为两层以上,所述两层以上固定装置具有完全相同的结构,且自所述腔体顶部向下的投影相同。
6.如权利要求2至4任一所述的蒸发源,其特征在于,所述固定装置在所述腔体侧壁面上的高度与所述腔体的高度相同,且所述固定装置相对的上部与所述腔体顶部对齐。
7.如权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述导流管与所述喷嘴之间通过螺栓和铜密封圈连接。
8.如权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述腔体内还设有蒸汽分散板,所述蒸汽分散板用于均匀分散蒸汽,以得到均匀的蒸汽流量。
9.如权利要求1所述的蒸发源,其特征在于,所述腔体相对所述固定装置的相邻侧边设有进料口。
10.一种蒸镀设备,其特征在于,包括如权利要求1至9任一所述的蒸发源。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711462654.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于薄膜蒸镀的装置
- 下一篇:一种用于磁控溅射镀膜的粉体分散方法
- 同类专利
- 专利分类